[發(fā)明專利]一種氣體泄漏量測量裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011436029.6
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN112748112A
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王松;馮平
• 申請（專利權(quán)）人: 中廣核核電運營有限公司;中國廣核集團(tuán)有限公司;中國廣核電力股份有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01M3/26
• 代理公司: 深圳市瑞方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44314
• 代理人: 馮小梅

本發(fā)明涉及一種氣體泄漏量測量裝置，包括：裝置本體，裝置本體包括：頂蓋、底座、設(shè)置在頂蓋以供氣體進(jìn)入的氣管接口、設(shè)置在頂蓋與底座之間以連接頂蓋和底座的多個支柱、內(nèi)置于多個支柱形成的容納空間中的儲水裝置；設(shè)置在多個支柱上用于檢測氣體泄漏量并輸出檢測信號的檢測裝置，與檢測裝置連接的下位機處理裝置；還包括：與下位機處理裝置連接的上位機；下位機處理裝置接收檢測信號，并對檢測信號進(jìn)行編碼后傳送至上位機，上位機對檢測信號進(jìn)行處理并輸出氣體泄漏量測量數(shù)據(jù)。本發(fā)明可自動測量氣體泄漏量，不需人工干預(yù)。另外，本發(fā)明還可以將泄漏量進(jìn)行直觀顯示，方便人員觀察和判斷。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及閥門研磨后的泄漏量測量的技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種氣體泄漏量測量裝置。

背景技術(shù)

現(xiàn)有閥門研磨后，常規(guī)的泄漏量計數(shù)方法是采用人工的方式，在氣體泄漏量較大時人員無法準(zhǔn)確獲取泄漏量信息，同時對于泄漏量信息無法直觀的顯示和評判，主觀誤差較大，評判精度差。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于，針對現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，提供一種氣體泄漏量測量裝置。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：構(gòu)造一種氣體泄漏量測量裝置，包括：裝置本體，所述裝置本體包括：頂蓋、底座、設(shè)置在所述頂蓋以供氣體進(jìn)入的氣管接口、設(shè)置在所述頂蓋與底座之間以連接所述頂蓋和底座的多個支柱、內(nèi)置于所述多個支柱形成的容納空間中的儲水裝置；設(shè)置在所述多個支柱上用于檢測氣體泄漏量并輸出檢測信號的檢測裝置，與所述檢測裝置連接的下位機處理裝置；還包括：與所述下位機處理裝置連接的上位機；

所述下位機處理裝置接收所述檢測信號，并對所述檢測信號進(jìn)行編碼后傳送至所述上位機，所述上位機對所述檢測信號進(jìn)行處理并輸出氣體泄漏量測量數(shù)據(jù)。

其中，所述多個支柱包括：第一支柱、第二支柱、第三支柱和第四支柱；所述第一支柱與所述第二支柱相對設(shè)置，所述第三支柱與所述第四支柱相對設(shè)置；

所述檢測裝置包括：設(shè)置在所述第一支柱上的紅外發(fā)射管、設(shè)置在所述第二支柱上且與所述紅外發(fā)射管在水平位置上對應(yīng)設(shè)置的紅外接收管。

其中，還包括：設(shè)置在所述第三支柱上的圖像采集裝置；

所述圖像采集裝置用于獲取泄漏氣體所形成的氣泡的圖像信息。

其中，所述圖像采集裝置包括USB攝像頭。

其中，還包括：設(shè)置在所述第四支柱上并與所述下位機處理裝置連接的發(fā)光裝置；

所述發(fā)光裝置根據(jù)所述下位機處理裝置的控制輸出光信號并對所述圖像采集裝置進(jìn)行光補償。

其中，還包括：設(shè)置在所述紅外接收管與所述下位機處理裝置之間的電壓比較器；

所述電壓比較器接收所述檢測信號并將所述檢測信號與參考信號進(jìn)行比較，根據(jù)比較結(jié)果輸出比較信號至所述下位機處理裝置。

其中，還包括：與所述下位機處理裝置連接、用于供所述下位機處理裝置與所述上位機進(jìn)行通訊的第一外部接口。

其中，還包括：與所述第一外部接口和所述下位機處理裝置連接、用于對所述第一外部接口和所述下位機處理裝置之間傳送的數(shù)據(jù)進(jìn)行轉(zhuǎn)換的轉(zhuǎn)換模塊。

其中，還包括：與所述下位機處理裝置連接、用于進(jìn)行靈敏度調(diào)節(jié)的靈敏度調(diào)節(jié)電位器。

其中，還包括：與所述下位機處理裝置連接、用于輸出指示信號的指示模塊。

其中，還包括：與所述圖像采集裝置連接、供所述圖像采集裝置與所述上位機通信的第二外部接口。

其中，所述底座包括：上殼和底殼，所述上殼和底殼之間形成容置腔；

所述氣體泄漏量測量裝置還包括：設(shè)置在所述容置腔中的電路板；