[發(fā)明專(zhuān)利]電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅?/span>在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011433807.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112557340A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 邴丕彬;國(guó)馨月;張紅濤;譚聯(lián);許若辰;劉慶 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 華北水利水電大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/3586 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/3586;G01N21/3577 |
| 代理公司: | 鄭州中原專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 41109 | 代理人: | 王曉麗 |
| 地址: | 450000 河*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電磁 誘導(dǎo) 時(shí)頻雙域超 表面 傳感器 | ||
1.一種電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎ɑ祝涮卣髟谟冢涸诨咨峡涛g金屬方環(huán),在金屬方環(huán)內(nèi)的基底上刻蝕金屬圓環(huán),金屬圓環(huán)設(shè)置有開(kāi)口端,開(kāi)口端與金屬方環(huán)的中間位置相對(duì)應(yīng),基底、金屬方環(huán)和金屬圓環(huán)構(gòu)成外方內(nèi)圓超表面?zhèn)鞲衅鳌?/p>
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎涮卣髟谟冢核鼋饘俜江h(huán)為閉合結(jié)構(gòu),金屬圓環(huán)為開(kāi)口結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎涮卣髟谟冢洪]合金屬方環(huán)和開(kāi)口金屬圓環(huán)構(gòu)成外方內(nèi)圓的周期性單元結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎涮卣髟谟冢航饘俜江h(huán)和金屬圓環(huán)的厚度均為0.2μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎涮卣髟谟冢核龌诪槿嵝跃埘啺坊住?/p>
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎涮卣髟谟冢核龌缀穸葹?0μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎涮卣髟谟冢簡(jiǎn)挝恢芷谛越Y(jié)構(gòu)外方內(nèi)圓金屬環(huán)結(jié)構(gòu)材料為金,周期為140μm,厚度為0.2μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁誘導(dǎo)的時(shí)頻雙域超表面?zhèn)鞲衅鳎涮卣髟谟冢航饘賵A環(huán)外半徑為31μm,開(kāi)口間隙w寬為12μm,外部閉合方環(huán)外環(huán)長(zhǎng)為116μm,方環(huán)與開(kāi)口圓環(huán)的線寬都為10μm。
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- 同類(lèi)專(zhuān)利
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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