[發(fā)明專利]口罩佩戴的檢測方法及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011433206.5 | 申請日: | 2020-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN113033278A | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉兆祥;廉士國 | 申請(專利權(quán))人: | 中國聯(lián)合網(wǎng)絡(luò)通信集團有限公司;聯(lián)通大數(shù)據(jù)有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00;G06K9/46;G06K9/62;G06N3/04 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 朱穎;黃健 |
| 地址: | 100033 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 口罩 佩戴 檢測 方法 裝置 | ||
1.一種口罩佩戴的檢測方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取待檢測的人臉圖像;
對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像;
在所述校正后的人臉圖像中識別出口罩的佩戴位置和人臉關(guān)鍵點的位置;
根據(jù)所述口罩的佩戴位置和所述人臉關(guān)鍵點的位置,檢測所述待檢測的人臉圖像中口罩佩戴的合規(guī)性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像,包括:
對所述待檢測的圖像進行人臉檢測,確定所述待檢測的圖像中的人臉區(qū)域;
在所述人臉區(qū)域中對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述人臉區(qū)域中對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像,包括:
計算所述待檢測的人臉圖像的人臉區(qū)域與標(biāo)準(zhǔn)人臉圖像的相似性變換矩陣;
根據(jù)所述相似性變換矩陣對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述校正后的人臉圖像中識別出口罩的佩戴位置和人臉關(guān)鍵點的位置,包括:
檢測所述口罩在人臉上的外接矩形;
根據(jù)所述口罩在人臉上的外接矩形,確定所述口罩的佩戴位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述人臉關(guān)鍵點包括兩眼關(guān)鍵點和鼻尖關(guān)鍵點,所述根據(jù)所述口罩的佩戴位置和所述人臉關(guān)鍵點的位置,檢測所述待檢測的人臉圖像中口罩佩戴的合規(guī)性,包括:
確定所述兩眼關(guān)鍵點的坐標(biāo)與所述口罩的佩戴位置的坐標(biāo)之間的第一差值,以及所述鼻尖關(guān)鍵點的坐標(biāo)與所述口罩的佩戴位置的坐標(biāo)之間的第二差值;
根據(jù)所述第二差值與所述第一差值的比值,確定所述待檢測的人臉圖像中口罩佩戴是否符合規(guī)范。
6.一種口罩佩戴的檢測裝置,其特征在于,所述裝置包括:
獲取模塊,用于獲取待檢測的人臉圖像;
識別模塊,用于對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像;在所述校正后的人臉圖像中識別出口罩的佩戴位置和人臉關(guān)鍵點的位置;
檢測模塊,用于根據(jù)所述口罩的佩戴位置和所述人臉關(guān)鍵點的位置,檢測所述待檢測的人臉圖像中口罩佩戴的合規(guī)性。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述識別模塊,還用于對所述待檢測的圖像進行人臉檢測,確定所述待檢測的圖像中的人臉區(qū)域;在所述人臉區(qū)域中對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述識別模塊,還用于計算所述待檢測的人臉圖像的人臉區(qū)域與標(biāo)準(zhǔn)人臉圖像的相似性變換矩陣;根據(jù)所述相似性變換矩陣對所述待檢測的人臉圖像進行人臉姿態(tài)校正,確定校正后的人臉圖像。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述識別模塊,還用于檢測所述口罩在人臉上的外接矩形;根據(jù)所述口罩在人臉上的外接矩形,確定所述口罩的佩戴位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其特征在于,所述人臉關(guān)鍵點包括兩眼關(guān)鍵點和鼻尖關(guān)鍵點,所述檢測模塊,還用于確定所述兩眼關(guān)鍵點的坐標(biāo)與所述口罩的佩戴位置的坐標(biāo)之間的第一差值,以及所述鼻尖關(guān)鍵點的坐標(biāo)與所述口罩的佩戴位置的坐標(biāo)之間的第二差值;根據(jù)所述第二差值與所述第一差值的比值,確定所述待檢測的人臉圖像中口罩佩戴是否符合規(guī)范。
11.一種電子設(shè)備,其特征在于,包括:處理器和存儲器;
所述存儲器用于存儲計算機程序;
所述處理器用于調(diào)用并運行所述存儲器中存儲的計算機程序,執(zhí)行如權(quán)利要求1-5中任一項所述的方法。
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