[發明專利]一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池及其制備方法在審
| 申請號: | 202011432717.5 | 申請日: | 2020-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN112563421A | 公開(公告)日: | 2021-03-26 |
| 發明(設計)人: | 于軍勝;鄭丁;侯思輝;吳夢鴿 | 申請(專利權)人: | 電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L51/44 | 分類號: | H01L51/44;H01L51/48 |
| 代理公司: | 成都弘毅天承知識產權代理有限公司 51230 | 代理人: | 謝建 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 dnt ph br 界面 鈍化 層鈣鈦礦 太陽能電池 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述太陽能電池從下到上依次為透明襯底、導電陰極、電子傳輸層、鈣鈦礦光活性層,界面鈍化層,空穴傳輸層以及金屬陽極,且上述各層按序依次制備。
2.根據權利要求1所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述襯底采用玻璃或透明聚合物構成;所述透明聚合物包括聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚氨基甲酸酯、聚酰亞胺、氯醋樹脂或聚丙烯酸中的一種或多種。
3.根據權利要求1所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述界面鈍化層材料為DNT-Ph-Br,所述界面鈍化材料厚度為5~20nm。
4.根據權利要求1所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述空穴傳輸層為Spiro-OMeTAD,薄膜厚度為30~60nm。
5.根據權利要求1所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于:所述金屬陽極材料包括銀、鋁或銅的一種或多種,厚度為100~200nm。
6.一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層的鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征包括以下步驟:
步驟1:將襯底洗凈并干燥;
步驟2:在襯底表面旋涂SnO2溶液,然后進行退火,制得電子傳輸層;
步驟3:配制鈣鈦礦前驅體溶液,并將新型氯化非富勒烯材料按照比例摻雜到鈣鈦礦前驅體溶液中;
步驟4:隔離環境,即無塵無氧干燥環境中,在基片上旋涂鈣鈦礦溶液,然后進行退火處理,制成鈣鈦礦光活性層;
步驟5:在鈣鈦礦活性層上旋涂DNT-Ph-Br,制成界面鈍化層;
步驟6:在界面鈍化層上旋涂Spiro-OMeTAD溶液,制成空穴傳輸層;
步驟7:高真空環境下,在空穴傳輸層上蒸鍍金屬陽極,制得鈣鈦礦太陽能電池。
7.根據權利要求6所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于:步驟2中,SnO2溶液為含2~3wt%的SnO2的水分散液,旋涂轉速為3000rpm,旋涂時間為30s,退火溫度為120℃,退火時間為15min。
8.根據權利要求6所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于:所述步驟3前驅體溶液總濃度為500mg/ml。
9.根據權利要求6所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于:步驟4中,旋涂轉速為4000rpm,旋涂時間為30s,退火溫度為120℃,退火時間為20min。
10.根據權利要求6所述的一種基于DNT-Ph-Br的界面鈍化層鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于:步驟5中,DNT-Ph-Br液的濃度為5-10mg/mL,旋涂轉速為6000rpm,旋涂時間為45s。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





