[發(fā)明專利]一種遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011431973.2 | 申請日: | 2020-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN112697273A | 公開(公告)日: | 2021-04-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳夢瑤;趙博欣;趙曉林;李宗哲;許潔 | 申請(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍空軍工程大學(xué) |
| 主分類號: | G01J1/42 | 分類號: | G01J1/42;H01S5/00;G01J1/44 |
| 代理公司: | 西安銘澤知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61223 | 代理人: | 耿路 |
| 地址: | 710051 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 遠(yuǎn)距離 激光 能量 均勻 測量 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開了一種遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng),其特征在于,包括在光傳播方向上依次設(shè)置的激光器、光路擴束系統(tǒng)、光路調(diào)節(jié)裝置、光強衰減器、快門和CCD/CMOS感光器件。本發(fā)明的系統(tǒng)使遠(yuǎn)距離激光光場中光斑不同位置處的激光脈沖強度被CCD/CMOS感光區(qū)域內(nèi)的各個獨立像素單元捕獲,CCD/CMOS通過對光場脈沖強度的積累,實現(xiàn)對遠(yuǎn)場激光能量均勻度的測量要求。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng)。
背景技術(shù)
探究遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度一直是激光應(yīng)用領(lǐng)域有待解決的關(guān)鍵問題,遠(yuǎn)場脈沖激光的能量分布均勻性在激光引信、激光制導(dǎo)、激光三維成像等領(lǐng)域具有重要的研究價值。
當(dāng)前,研究人員通常采用M2測試儀測量近場激光光束的光束質(zhì)量因子,進(jìn)而得到近場范圍內(nèi)激光光束的能量分布特性,這種評價體制的缺陷在于利用M2測試儀對激光輸出窗口附近激光光斑進(jìn)行探測,僅能獲得激光輸出窗口附近激光光斑的能量分布特性,無法對激光傳輸過程中的遠(yuǎn)距離激光光場的能量均勻度進(jìn)行有效測量。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實施例提供了一種遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng),可以解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題。
本發(fā)明提供了一種遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng),包括在光傳播方向上依次設(shè)置的激光器、光路擴束系統(tǒng)、光路調(diào)節(jié)裝置、光強衰減器、快門和CCD/CMOS感光器件,所述快門的工作狀態(tài)由快門控制電路控制,所述快門控制電路在激光脈沖開始進(jìn)入CCD/CMOS感光器件時控制快門開啟,在該激光脈沖全部進(jìn)入CCD/CMOS感光器件時關(guān)閉,使CCD/CMOS感光器件積累到單個周期激光脈沖的全部能量。
優(yōu)選地,所述光路調(diào)節(jié)裝置將入射的激光脈沖透射后沿水平方向照射到光強衰減器中。
優(yōu)選地,所述光路調(diào)節(jié)裝置將入射的激光脈沖向相反方向反射至光強衰減器。
優(yōu)選地,所述光路調(diào)節(jié)裝置將入射的激光脈沖向垂直方向反射至光強衰減器。
優(yōu)選地,所述快門控制電路是快速響應(yīng)控制器件,或者電光轉(zhuǎn)換開關(guān)。
優(yōu)選地,所述的光路擴束系統(tǒng)是鍍膜透鏡組合。
優(yōu)選地,所述的光強衰減器是鍍膜衰減片組合。
本發(fā)明提供的一種遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng),具有以下優(yōu)點:
由于本發(fā)明包括激光器、光路擴束系統(tǒng)、光路調(diào)節(jié)裝置、光強衰減器、快門和CCD/CMOS感光器件,使遠(yuǎn)距離激光光場中光斑不同位置處的激光脈沖強度被CCD/CMOS感光區(qū)域內(nèi)的各個獨立像素單元捕獲,CCD/CMOS通過對光場脈沖強度的積累,實現(xiàn)對遠(yuǎn)場激光能量分布特性的測量要求。這種方法具有可測量遠(yuǎn)距離全光場范圍內(nèi)激光能量分布特性的優(yōu)點,是一種新穎的、可代替常規(guī)脈沖能量探測方法的新興技術(shù)。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明實施例一中遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng)的組成示意圖;
圖2為實施例二中遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng)的組成示意圖;
圖3為實施例三中遠(yuǎn)距離激光光場能量均勻度測量系統(tǒng)的組成示意圖。
具體實施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國人民解放軍空軍工程大學(xué),未經(jīng)中國人民解放軍空軍工程大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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