[發明專利]一種氣化爐的控制方法

在審

• 申請號: 202011431127.0
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112592740A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 付偉賢;李曉麗;王向龍;高明;劉剛;彭知順
• 申請（專利權）人: 新奧科技發展有限公司
• 主分類號: C10J3/50
• 分類號: C10J3/50;C10J3/72
• 代理公司: 北京工信聯合知識產權代理有限公司 11266
• 代理人: 郭欣欣

本申請公開了一種氣化爐的控制方法，氣化爐具有燒嘴，燒嘴具有從內至外依次套設的第一氧氣通道、第一物料通道、第二物料通道和第二氧氣通道，控制方法包括：步驟一，氣化爐運行過程中，若需要停止向第一物料通道和第二物料通道中的任一物料通道輸送物料，則將第一氧氣通道的輸送量A0保持不變，將第二氧氣通道的輸送量從D0調整至D1，D1等于D0減去氣化系統中預停止輸送物料量氣化所對應的氧氣量，然后在預設時間內，停止向任一物料通道輸送物料。本申請的控制方法使得水煤漿或粉煤可以在線退出氣化爐，從而使得生產系統長周期穩定運行。

技術領域

本申請涉及氣化技術領域，尤其涉及一種氣化爐的控制方法。

背景技術

粉漿氣化技術的實質是在氣化爐內同時噴入漿態含碳有機物和粉態含碳有機物，減少水量帶入間接提高整體含碳有機物濃度，實現漿態含碳有機物和粉態含碳有機物的高效共氣化。目前的粉漿氣化工藝分為兩種，單噴嘴粉漿氣化和多噴嘴粉漿氣化，其中單噴嘴粉漿氣化是在氣化爐頂部設置多通道粉漿組合燒嘴，粉煤、水煤漿和氣化爐通過組合燒嘴噴入氣化爐并發生化學反應。

申請號為CN201820984686.6中國專利公開了一種單噴嘴粉漿氣化爐組合燒嘴結構，目前采用該結構燒嘴運行過程中水煤漿\粉煤系統出現問題檢修過程氣化爐需整體停車，嚴重影響生產系統的長周期穩定運行。

申請內容

本申請提供一種氣化爐的控制方法，能夠使得生產系統長周期穩定運行。

第一方面，本申請的實施例提供了一種氣化爐的控制方法，氣化爐具有燒嘴，燒嘴具有從內至外依次套設的第一氧氣通道、第一物料通道、第二物料通道和第二氧氣通道，控制方法包括：步驟一，氣化爐運行過程中，若需要停止向第一物料通道和第二物料通道中的任一物料通道輸送物料，則將第一氧氣通道的輸送量A0保持不變，將第二氧氣通道的輸送量從D0調整至D1，D1等于D0減去氣化系統中預停止輸送物料量氣化所對應的氧氣量，然后在預設時間內，停止向任一物料通道輸送物料。

在其中一些實施例中，在停止向任一物料通道輸送物料之后，還包括：步驟二，在預設時間內，向停止輸送物料的物料通道內供應惰性氣體和/或二氧化碳氣體。步驟三，將第一氧氣通道的輸送量調整至A1，將第二氧氣通道的輸送量調整至D2，A1與D2之和等于A0與D1之和。

在其中一些實施例中，第一物料通道為水煤漿通道，第二物料通道為粉煤通道。

在其中一些實施例中，步驟一中任一物料為水煤漿時，步驟三中的A1與D2之和中A1的占比為5％-30％。步驟一中任一物料為粉煤時，步驟三中的A1與D2之和中A1的占比為18％-25％。

在其中一些實施例中，步驟一中，預停止輸送物料的停止量及其對應的第二氧氣通道的輸送量均按照70-75％、40-50％兩個階段進行減少。

在其中一些實施例中，在將第一氧氣通道的輸送量調整至A1，將第二氧氣通道的輸送量調整至D2之后，還包括：步驟四、將一直輸送物料的物料通道的輸送量調整至C1，將第一氧氣通道的輸送量調整至A2，將第二氧氣通道的輸送量調整至D3，A2與D3之和與C1的比值等于氣化系統中一直輸送的物料氣化所對應的氧煤比。而且，步驟一中任一物料為水煤漿時，A2與D3之和中A2的占比為5％-30％。步驟一中任一物料為粉煤時，A2與D3之和中A2的占比為18％-25％。