[發(fā)明專利]加濕凈化裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011430928.5 | 申請日: | 2020-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN112923465B | 公開(公告)日: | 2022-11-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄭載赫;梁承德;崔碩浩 | 申請(專利權(quán))人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | F24F6/04 | 分類號: | F24F6/04 |
| 代理公司: | 隆天知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 崔炳哲 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加濕 凈化 裝置 | ||
1.一種加濕凈化裝置,其特征在于,包括:
水槽,具有朝向上側(cè)開口的吐出口;以及
吐出格柵,配置于所述水槽,覆蓋所述吐出口,
所述吐出格柵包括多個葉片,多個所述葉片配置于所述吐出口,并且彼此隔開配置,
俯視時多個所述葉片彼此重疊以覆蓋所述吐出口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述吐出格柵包括:下格柵,配置于所述水槽內(nèi)部以覆蓋所述吐出口;上格柵,配置于所述下格柵的上側(cè),
所述上格柵包括形成第一吐出面積的多個上葉片,
所述下格柵包括形成第二吐出面積的多個下葉片,
所述上葉片配置于所述第二吐出面積的上側(cè),并且仰視時覆蓋所述第二吐出面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述下葉片配置于所述第一吐出面積的下側(cè),并且俯視時覆蓋所述第一吐出面積。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述下葉片和所述上葉片中的至少一個形成為相對于上下方向傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述下葉片的傾斜方向和所述上葉片的傾斜方向交叉。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述多個上葉片形成為以所述上格柵的中心為基準(zhǔn)呈放射狀,
所述多個下葉片配置為以所述下格柵的中心為基準(zhǔn)呈放射狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
多個所述上葉片以所述上格柵的中心為基準(zhǔn)沿圓周方向排列,
多個所述下葉片以所述下格柵的中心為基準(zhǔn)沿圓周方向排列。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述上格柵包括:
上內(nèi)框架,在所述上內(nèi)框架的中央形成有上格柵供水口;
上外框架,與所述上內(nèi)框架隔開,并且形成為圍繞所述上內(nèi)框架;
多個所述上葉片,連接所述上內(nèi)框架和所述上外框架;以及
第一吐出面積,形成于所述上葉片之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述上格柵的中心形成于所述上內(nèi)框架的內(nèi)側(cè),
多個所述上葉片和所述第一吐出面積配置為以所述中心為基準(zhǔn)呈放射狀。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述下格柵包括:
下內(nèi)框架,在所述下內(nèi)框架的中央形成有下格柵供水口;
下外框架,與所述下內(nèi)框架隔開,并且形成為圍繞所述下內(nèi)框架;
多個所述下葉片,連接所述下內(nèi)框架和所述下外框架;以及
第二吐出面積,形成于所述下葉片之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述下格柵的中心形成于所述下內(nèi)框架的內(nèi)側(cè),
多個所述下葉片和所述第二吐出面積配置為以所述中心為基準(zhǔn)呈放射狀。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述上葉片配置于所述第二吐出面積的上側(cè),所述下葉片配置于所述第一吐出面積的下側(cè),
俯視時所述上葉片覆蓋第二吐出面積。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加濕凈化裝置,其特征在于,
所述吐出格柵以能夠分離的方式放置于所述水槽。
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