[發(fā)明專利]一種新材料加工混合處理裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011429313.0
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112588236A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王占文
• 申請（專利權(quán)）人: 王占文
• 主分類號: B01J19/18
• 分類號: B01J19/18;F01D15/10;B03C5/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種新材料加工混合處理裝置，包括反應(yīng)罐和混合處理罐，所述混合處理罐頂部設(shè)置有頂蓋，所述頂蓋頂部與反應(yīng)罐底部邊側(cè)之間安裝有連接導(dǎo)氣管，所述反應(yīng)罐頂部邊側(cè)與混合處理罐上邊側(cè)之間安裝有回流氣管，所述回流氣管中部安裝有過濾自發(fā)電裝置，所述混合處理罐內(nèi)部安裝有混合裝置，所述反應(yīng)罐內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)腔，所述反應(yīng)罐底部設(shè)置有壓力觸發(fā)裝置，所述反應(yīng)腔內(nèi)側(cè)夏下方設(shè)置有沉積液底盤，所述反應(yīng)罐內(nèi)部外環(huán)邊側(cè)設(shè)置有外排孔，本發(fā)明涉及新材料加工技術(shù)領(lǐng)域。該新材料加工混合處理裝置，解決了攪拌裝置往往攪拌不均勻，并且現(xiàn)有處理裝置不能快速對下層反應(yīng)液分離處理，內(nèi)部反應(yīng)速率低的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及新材料加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種新材料加工混合處理裝置。

背景技術(shù)

新材料是指新近發(fā)展或正在發(fā)展的具有優(yōu)異性能的結(jié)構(gòu)材料和有特殊性質(zhì)的功能材料。結(jié)構(gòu)材料主要是利用它們的強(qiáng)度、韌性、硬度、彈性等機(jī)械性能。如新型陶瓷材料，非晶態(tài)合金(金屬玻璃)等。功能材料主要是利用其所具有的電、光、聲、磁、熱等功能和物理效應(yīng)。近幾年，世界上研究、發(fā)展的新材料主要有新金屬材料，精細(xì)陶瓷和光纖等等。新材料是指新近發(fā)展的或正在研發(fā)的、性能超群的一些材料，具有比傳統(tǒng)材料更為優(yōu)異的性能。近年來，新材料越來越受重視，國家也重視新材料產(chǎn)業(yè)發(fā)展。在對新材料進(jìn)行加工時(shí)，尤其需要攪拌罐來實(shí)現(xiàn)攪拌加工，現(xiàn)有的攪拌裝置往往攪拌不均勻，并且現(xiàn)有處理裝置不能快速對下層反應(yīng)液分離處理，內(nèi)部反應(yīng)速率低。

發(fā)明內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問題

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種新材料加工混合處理裝置，解決了攪拌裝置往往攪拌不均勻，并且現(xiàn)有處理裝置不能快速對下層反應(yīng)液分離處理，內(nèi)部反應(yīng)速率低的問題。

(二)技術(shù)方案

為實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：一種新材料加工混合處理裝置，包括反應(yīng)罐和混合處理罐，所述混合處理罐頂部設(shè)置有頂蓋，所述頂蓋頂部與反應(yīng)罐底部邊側(cè)之間安裝有連接導(dǎo)氣管，所述反應(yīng)罐頂部邊側(cè)與混合處理罐上邊側(cè)之間安裝有回流氣管，所述回流氣管中部安裝有過濾自發(fā)電裝置，所述混合處理罐內(nèi)部安裝有混合裝置，所述反應(yīng)罐內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)腔，所述反應(yīng)罐底部設(shè)置有壓力觸發(fā)裝置，所述反應(yīng)腔內(nèi)側(cè)夏下方設(shè)置有沉積液底盤，所述反應(yīng)罐內(nèi)部外環(huán)邊側(cè)設(shè)置有外排孔，所述外排孔分布在沉積液底盤下方，上方設(shè)置的導(dǎo)氣管會將用于加速混合處理罐反應(yīng)的內(nèi)部氣流重新注入反應(yīng)罐，不僅可以起到冷卻反應(yīng)罐的目的，還可以通過注入反應(yīng)液中，增大反應(yīng)液的反應(yīng)范圍，提高反應(yīng)速率。

優(yōu)選的，所述過濾自發(fā)電裝置包括氣體腔管，所述氣體腔管中部設(shè)置有內(nèi)轉(zhuǎn)軸，所述內(nèi)轉(zhuǎn)軸位于氣體腔管中部的位置安裝有內(nèi)旋發(fā)電端子，所述內(nèi)旋發(fā)電端子底部設(shè)置有離心靜電處理片，所述氣體腔管內(nèi)側(cè)底部設(shè)置有氣流內(nèi)旋架，反應(yīng)氣流在經(jīng)過過濾自發(fā)電裝置的時(shí)候，可以帶動內(nèi)部的內(nèi)旋發(fā)電端子轉(zhuǎn)動，使得裝置可以氣流內(nèi)部反應(yīng)氣流發(fā)電，反應(yīng)液反應(yīng)后產(chǎn)生的氣流通過邊側(cè)的回流氣管重新注入混合處理罐中提高內(nèi)部溫度，提高初級混合時(shí)內(nèi)部反應(yīng)液的初級反應(yīng)速率。

優(yōu)選的，所述離心靜電處理片包括上端子體和下端子體，所述下端子體安裝在上端子體下方，所述上端子體與下端子體之間設(shè)置有復(fù)位彈簧連桿。

優(yōu)選的，所述下端子體一邊側(cè)開設(shè)有活動內(nèi)腔，所述活動內(nèi)腔內(nèi)部通過復(fù)位彈性繩安裝有靜電吸附球，所述下端子體內(nèi)部設(shè)置有內(nèi)斜管，過濾自發(fā)電裝置內(nèi)部的氣流內(nèi)旋架與離心靜電處理片可以對內(nèi)部一些顆粒材料和雜質(zhì)進(jìn)行過濾處理，離心靜電處理片也會隨著氣流增大，內(nèi)旋發(fā)電端子轉(zhuǎn)動的速度快點(diǎn)，使得離心靜電處理片擴(kuò)展的范圍更加的廣，處理效果更好。

優(yōu)選的，所述壓力觸發(fā)裝置包括支撐底座和安裝頂座，所述支撐底座與安裝頂座之間安裝有彈性支撐內(nèi)架，所述支撐底座頂部設(shè)置有邊側(cè)磁力架，所述安裝頂座底部設(shè)置有上位架，所述上位架底部與支撐底座之間設(shè)置有支撐彈簧桿，所述上位架位于邊側(cè)磁力架下方。