[發明專利]發光層制備多噴嘴噴射調度方法、裝置、存儲介質和終端

有效

• 申請號: 202011427559.4
• 申請日: 2020-12-09
• 公開（公告）號: CN112215445B
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 呂賜興;毛淇;白敏霞;李一越
• 申請（專利權）人: 季華實驗室
• 主分類號: G06Q10/04
• 分類號: G06Q10/04;G06Q10/06;G06Q50/04;G06N3/04;G06N3/08;G06N7/00;B05B12/12;B05B12/08;H01L51/56;H01L51/50
• 代理公司: 佛山市海融科創知識產權代理事務所(普通合伙) 44377
• 代理人: 陳志超;唐敏珊

本發明公開了一種發光層制備多噴嘴噴射調度方法、裝置、存儲介質和終端，將多噴嘴噴射調度問題轉化為深度強化學習問題，在實現深度強化學習方法的過程中，為每個噴嘴建立Agent,有效避免了同時對幾千個噴嘴進行調度運算的難題；不僅實現了多噴嘴的噴射調度，而且還能夠適應顯示面板上子像素形狀/大小/空間分布的變化，也能夠適應噴嘴的動態變化，實現了在動態環境下也能夠實現面向印刷OLED發光層的多噴嘴噴射調度。

技術領域

本發明涉及OLED制備技術領域，尤其涉及的是一種發光層制備多噴嘴噴射調度方法、裝置、存儲介質和終端。

背景技術

印刷OLED顯示面板上發光層制備需要通過調度幾千個噴嘴的噴射，將上億的有機發光材料墨滴，填滿幾千萬個R/G/B子像素凹糟（填滿一個子像素凹槽需要3-7滴）；同時需要滿足子像素內液滴總體積誤差、噴嘴均衡使用等約束，是一個NP-Hard問題（指所有NP問題都能在多項式時間復雜度內歸約到的問題）。已有的傳統優化算法雖然能求得問題的近優解，然而，由于產品和工藝的需要，顯示基板的像素結構經常變化；而且噴嘴在長時間工作后，會經常發生噴射體積的改變、甚至發生噴嘴堵塞，造成噴嘴的可用性和性能在動態變化，所以，如何在這種動態的環境下，實現印刷OLED發光層制備多噴嘴噴射調度，是一個亟待解決的問題。

因此，現有的技術還有待于改進和發展。

發明內容

本發明的目的在于提供一種發光層制備多噴嘴噴射調度方法、裝置、存儲介質和終端，旨在解決如何在動態的環境下，實現印刷OLED發光層制備多噴嘴噴射調度的問題。

本發明的技術方案如下：一種發光層制備多噴嘴噴射調度方法，其中，具體包括以下步驟：

按照印刷OLED發光層制備的技術要求，根據印刷OLED發光層噴印問題構建印刷OLED發光層噴印問題模型；

根據所述印刷OLED發光層噴印問題模型構建面向多噴嘴噴射調度的深度強化學習神經網絡；

對所述面向多噴嘴噴射調度的深度強化學習神經網絡進行訓練；

通過訓練好的面向多噴嘴噴射調度的深度強化學習神經網絡進行印刷OLED發光層生產過程的多噴嘴噴射控制。

所述的發光層制備多噴嘴噴射調度方法，其中，所述按照印刷OLED發光層制備的技術要求，根據印刷OLED發光層噴印問題構建印刷OLED發光層噴印問題模型，印刷OLED發光層噴印問題模型包括建立包括子像素內液滴體積差異的效用性評價指標、建立噴嘴使用均衡的穩定性指標、定義噴印系統中的變量、計算得到可噴射時刻序列、確定某一噴射時刻下可噴射噴嘴的集合。

所述的發光層制備多噴嘴噴射調度方法，其中，所述效用性評判指標中，子像素凹槽內的液滴總體積滿足如下體積差異條件：，為子像素凹槽內的液滴總體積，為子像素凹槽內的液滴的額定總體積，為允許誤差；所述穩定性指標中，對每個噴嘴的噴射時間間隔，為每個噴嘴的噴射時間間隔，為每個噴嘴的額定噴射時間間隔。

所述的發光層制備多噴嘴噴射調度方法，其中，所述可噴射時刻序列中，根據噴頭的噴射頻率參數，可計算得到噴頭的可噴射時刻序列，其中，為噴頭的可噴射時刻序列，L為OLED在基板運動方向上的長度，W為噴頭在基板運動方向上的厚度，為OLED沿著Y軸方向勻速運動的速度。

所述的發光層制備多噴嘴噴射調度方法，其中，所述確定某一噴射時刻下可噴射噴嘴的集合，具體包括以下過程：

采用矢量圖的方法，建立OLED上子像素的空間結構矢量圖和噴頭上多個噴嘴的空間結構矢量圖；

在每個噴射時刻下，在Z軸投影上將子像素的空間結構矢量圖和噴頭上多個噴嘴的空間結構矢量圖進行求交集運算，得到子像素與噴嘴重合的子像素集合、子像素與噴嘴重合的噴嘴集合，其中，噴嘴集合就是在對應噴射時刻下可噴射噴嘴的集合。