[發(fā)明專利]拋光設備

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011420905.6
• 申請日: 2020-12-08
• 公開（公告）號: CN112589661A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設計）人: 閆樂偉
• 申請（專利權）人: 東莞市恒天表面處理材料有限公司
• 主分類號: B24B31/00
• 分類號: B24B31/00;B24B31/12;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/00
• 代理公司: 深圳茂達智聯知識產權代理事務所(普通合伙) 44394
• 代理人: 張凡

本發(fā)明公開了一種拋光設備，包括公轉機構、自轉機構以及磨料箱機構，所述公轉機構包括公轉驅動裝置、公轉軸以及公轉盤，所述公轉盤固定于公轉軸下端，所述公轉驅動裝置驅動公轉軸與公轉盤轉動；所述自轉機構包括自轉驅動裝置、與自轉驅動裝置傳動連接的自轉軸套、設于自轉軸套的自轉齒輪以及與自轉齒輪嚙合的若干自轉磨桿組；其中，若干所述自轉磨桿組均可轉動的設于公轉盤，所述自轉軸套活動套設于公轉軸；使所述自轉磨桿組的下端伸入磨料箱機構，所述自轉驅動裝置驅動自轉軸套轉動，所述自轉齒輪跟隨轉動，從而使自轉磨桿組自轉。本發(fā)明提供的拋光設備，拋光均勻、設備通用性好。

技術領域

本發(fā)明涉及拋光技術領域，具體地說，涉及一種拋光設備。

背景技術

對零件進行打磨拋光經常用到拋光設備，現有技術為了提升傳統的拋光設備的拋光效果，通常設置公轉軸和自轉軸。

其中公轉軸和自轉軸采用一個動力單元輸出的動力，使得公轉和自傳為固定的轉速比，固定的轉速比對于拋光工件長寬比例比較大的產品，例如手機中框，由于其長度方向兩端的線速度遠遠大于中間的線速度，易造成產品長度方向兩端拋光過量，限制了設備的性能及通用性。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于提供一種拋光設備，拋光均勻、設備通用性好。

本發(fā)明公開的拋光設備所采用的技術方案是:

一種拋光設備，包括公轉機構、自轉機構以及磨料箱機構，所述公轉機構包括公轉驅動裝置、公轉軸以及公轉盤，所述公轉盤固定于公轉軸下端，所述公轉驅動裝置驅動公轉軸與公轉盤轉動；所述自轉機構包括自轉驅動裝置、與自轉驅動裝置傳動連接的自轉軸套、設于自轉軸套的自轉齒輪以及與自轉齒輪嚙合的若干自轉磨桿組；其中，若干所述自轉磨桿組均可轉動的設于公轉盤，所述自轉軸套活動套設于公轉軸；使所述自轉磨桿組的下端伸入磨料箱機構，所述自轉驅動裝置驅動自轉軸套轉動，所述自轉齒輪跟隨轉動，從而使自轉磨桿組自轉。

作為優(yōu)選方案，還包括升降機構，所述升降機構包括升降驅動件、升降板以及導桿，所述公轉機構、自轉機構設于升降板，所述升降板滑動設于導桿，所述升降驅動件驅動升降板升降。

作為優(yōu)選方案，所述磨料箱機構包括磨料箱以及磨料箱驅動件，所述磨料箱驅動件驅動磨料箱旋轉。

作為優(yōu)選方案，所述磨料箱的旋轉方向與自轉磨桿組的自轉方向相反。

作為優(yōu)選方案，所述自轉磨桿組包括第一自轉分齒輪、連接軸、第二自轉分齒輪、自轉盤以及若干自轉分磨桿組，所述第一自轉分齒輪與自轉齒輪嚙合，所述連接軸一端連接第一自轉分齒輪，另一端穿過公轉盤與第二自轉分齒輪、自轉盤連接，若干所述自轉分磨桿組可轉動的設于自轉盤，且若干所述自轉分磨桿組與第二自轉分齒輪嚙合。

作為優(yōu)選方案，所述自轉分磨桿組包括自轉小齒輪、磨盤軸以及磨桿，所述自轉小齒輪與第二自轉分齒輪嚙合，所述磨盤軸一端傳動連接自轉小齒輪，另一端傳動連接磨桿。

作為優(yōu)選方案，所述自轉分磨桿組還包括用于連接磨盤軸、磨桿的套管，所述套管上形成通腔，所述磨盤軸自套管上端伸入通腔，所述磨桿自套管下端伸入通腔，所述自轉分磨桿組還包括設于套管的活動插件和彈性件，所述活動插件包括插接部，所述磨桿上開設第一插接孔，所述套管上開設與第一插接孔相對的第二插接孔，所述插接部自第二插接孔伸入第一插接孔內，從而使套管與磨桿相連接，所述彈性件設于套管的遠離第二插接孔一側，所述活動插件還包括連接部，所述連接部一端連接插接部，所述連接部另一端延伸至彈性件，所述彈性件一端抵接于套管，另一端抵接于連接部。

作為優(yōu)選方案，所述通腔下端形成第一限轉面，所述磨桿伸入通腔的一端形成第二限轉面，使所述第一限轉面與第二限轉面配合以傳遞動力。

作為優(yōu)選方案，所述自轉驅動裝置包括自轉驅動電機、設于自轉驅動電機主軸的自轉主動齒輪、與自轉主動齒輪嚙合的自轉從動齒輪，所述自轉從動齒輪與自轉齒輪均固定于自轉軸套。