[發明專利]一種模型生成方法、裝置、存儲介質及計算機設備

在審

• 申請號: 202011419999.5
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112465945A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發明（設計）人: 郭子瑋;劉廣;崔璐
• 申請（專利權）人: 網易（杭州）網絡有限公司
• 主分類號: G06T15/00
• 分類號: G06T15/00;G06T15/04;G06T17/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 遠明

1.一種模型生成方法，其特征在于，包括：

獲取高模模型的多張渲染圖和模型高度信息；

根據預設簡易模型、所述模型高度信息以及所述多張渲染圖確定初始模型；

根據所述預設簡易模型的光照系數和所述初始模型生成目標模型，所述目標模型用于渲染生成虛擬對象。

2.根據權利要求1所述的模型生成方法，其特征在于，所述預設簡易模型包括位于三維空間的多個目標點，所述根據預設簡易模型、所述模型高度信息以及所述多張渲染圖確定初始模型，包括：

根據所述模型高度信息確定所述目標點在二維平面的高度偏移紋理坐標；

根據所述目標點的高度偏移紋理坐標修正所述多張渲染圖，并將修正后的所述多張渲染圖貼在所述預設簡易模型上，以得到初始模型。

3.根據權利要求2所述的模型生成方法，其特征在于，所述根據所述模型高度信息確定所述目標點在二維平面的高度偏移紋理坐標，包括：

確定所述預設簡易模型上多個目標點中任意一個目標點的屏幕坐標偏移基本值；

根據所述目標點的屏幕坐標偏移基本值和所述模型高度信息確定所述目標點的高度偏移紋理坐標。

4.根據權利要求3所述的模型生成方法，其特征在于，所述確定所述預設簡易模型上多個目標點中任意一個目標點的屏幕坐標偏移基本值，包括：

獲取所述簡易模型在三維空間中的任意一個目標點的第一向量和對應的第二向量；

根據所述目標點的第一向量、切線向量和對應的第二向量確定所述目標點的二維偏移量；

根據距離系數和所述二維偏移量確定所述目標點的屏幕坐標偏移基本值，所述距離系數由預設公式確定。

5.根據權利要求4所述的模型生成方法，其特征在于，所述獲取所述簡易模型在三維空間中的任意一個目標點的第一向量和對應的第二向量，包括：

獲取三維空間中所述目標點到主相機方向的第一向量；

根據所述目標點的法線向量和切線向量確定所述目標點的第二向量。

6.根據權利要求4所述的模型生成方法，其特征在于，所述根據所述目標點的第一向量、切線向量和對應的第二向量確定所述目標點的二維偏移量，包括：

計算所述目標點的第一向量和切線向量之間的第一點積以及所述目標點的第一向量和對應的第二向量之間的第二點積，以得到所述目標點的二維偏移量。

7.根據權利要求4所述的模型生成方法，其特征在于，所述根據所述目標點的屏幕坐標偏移基本值和所述模型高度信息確定所述目標點的高度偏移紋理坐標，包括：

獲取所述高模模型的多個紋理坐標，所述紋理坐標對應所述多個目標點中的一個；

根據所述多個紋理坐標、所述模型高度信息和所述目標點的屏幕坐標偏移基本值確定所述目標點的高度偏移紋理坐標。

8.根據權利要求7所述的模型生成方法，其特征在于，所述模型高度信息包括多個高度值，所述高度值對應所述多個目標點中的一個，所述根據所述多個紋理坐標、所述模型高度信息和所述目標點的屏幕坐標偏移基本值確定所述目標點的高度偏移紋理坐標，包括：

將所述多個高度值二值化；

根據所述目標點對應的二值化后的高度值、預設高度控制比例、所述目標點的屏幕坐標偏移基本值和所述目標點對應的紋理坐標確定所述目標點的高度偏移紋理坐標。

9.根據權利要求8所述的模型生成方法，其特征在于，所述根據所述目標點對應的二值化后的高度值、預設高度控制比例、所述目標點的屏幕坐標偏移基本值和所述目標點對應的紋理坐標確定所述目標點的高度偏移紋理坐標，包括：

計算所述目標點對應的二值化后高度值和預設高低控制比例的第一乘積；

計算所述第一乘積與所述目標點的屏幕坐標偏移基本值的第二乘積；

計算所述第二乘積與所述目標點對應的紋理坐標之間的第一和值，以得到所述目標點的高度偏移紋理坐標。