[發明專利]一種多孔氧化銅納米線材料及其制備方法

有效

• 申請號: 202011418801.1
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112520779B
• 公開（公告）日: 2023-09-15
• 發明（設計）人: 舒群威
• 申請（專利權）人: 貴州理工學院
• 主分類號: C01G3/02
• 分類號: C01G3/02;B82Y40/00
• 代理公司: 北京國坤專利代理事務所(普通合伙) 11491
• 代理人: 趙紅霞

1.一種多孔氧化銅納米線材料，其特征是，包括純銅基片以及分布在純銅基片表面的多孔結構，多孔結構邊緣、純銅基片表面均形成有氧化銅納米線，多孔結構內部形成有氧化銅納米棒；

該多孔氧化銅納米線材料的制備方法包括以下步驟：

S101：選取厚度為2-4mm的純銅基片，將純銅基片表面用去離子水超聲清洗5-10min，然后放置干燥箱在120-150℃條件下干燥3-5min；

S102：將PMMA材料通過超微粉碎機粉碎至平均粒徑為0.5-1.5mm的顆粒，將PMMA顆粒平鋪在呈水平狀態的高壓模具內底面；利用刮板將PMMA顆粒平鋪均勻后，將干燥后的純銅基片平放在PMMA顆粒上；

S103：通過高壓模具由上而下對純銅基片施壓300-400MPa，施壓時間為3h；

S104：將高壓后的純銅基片表面清理后放入丙酮中浸泡溶解PMMA顆粒，浸泡后利用無水乙醇清洗20-30min，得到表面呈多孔狀的純銅基片；

S105：將所得純銅基片的多孔面朝向放置在空氣氛圍下，通過保護氣體形成氣流柱以50-80mL/min的流速吹向多孔面中心，同時通過電加熱板直接在300-360℃條件下加熱銅基的多孔面3-4h，待冷卻至室溫后制得多孔氧化銅納米線產品。

2.根據權利要求1所述的一種多孔氧化銅納米線材料，其特征是，所述氧化銅納米線長9-11nm，氧化銅納米棒長4-7nm，多孔結構的直徑為0.5-1.2mm。

3.根據權利要求1所述的一種多孔氧化銅納米線材料，其特征是，所述純銅基片的孔隙率為62-75％。

4.根據權利要求1所述的一種多孔氧化銅納米線材料，其特征是，所述高壓模具對純銅基片施壓具體為：初始壓強在10min內提升至300MPa，以壓強差20MPa、時間間隔15min將初始壓強300MPa逐漸提升至終止壓強400MPa，然后以逆降方式將終止壓強400MPa降至初始壓強300MPa。

5.根據權利要求1所述的一種多孔氧化銅納米線材料，其特征是，所述保護氣體為氦氣或氖氣。