[發(fā)明專利]一種用于光學(xué)元件表面熒光特性顆粒檢測(cè)的裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011417600.X | 申請(qǐng)日: | 2020-12-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112611741B | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔣一嵐;牛龍飛;賈寶申;苗心向;呂海兵;姚彩珍;周國(guó)瑞;劉青安 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號(hào): | G01N21/64 | 分類號(hào): | G01N21/64;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11369 | 代理人: | 賈曉燕 |
| 地址: | 621000 四*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 光學(xué) 元件 表面 熒光 特性 顆粒 檢測(cè) 裝置 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種用于光學(xué)元件表面熒光特性顆粒檢測(cè)的裝置及方法,包括:紫外熒光成像系統(tǒng),其連接有控制電腦;運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu),紫外熒光成像系統(tǒng)設(shè)置在運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上;將紫外熒光成像系統(tǒng)固定于運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上,將光學(xué)元件放置于底座內(nèi);通過運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的支架調(diào)整紫外熒光成像系統(tǒng)與光學(xué)元件的距離,使其成像最清晰;控制電腦控制紫外熒光成像系統(tǒng),使用CCD相機(jī)拍照并分析檢測(cè)結(jié)果;通過運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的縱向?qū)к墶M向?qū)к壓拓Q直導(dǎo)軌移動(dòng)紫外熒光成像系統(tǒng),并重復(fù)進(jìn)行拍照分析,完成對(duì)光學(xué)元件的抽樣檢測(cè)。本發(fā)明可根據(jù)成像鏡頭的工作距離,通過運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)紫外熒光成像系統(tǒng)與光學(xué)元件之間的距離。本發(fā)明檢測(cè)方法為無(wú)損檢測(cè),與光學(xué)元件無(wú)接觸,無(wú)二次污染產(chǎn)生。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光學(xué)元件檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說,本發(fā)明涉及一種用于光學(xué)元件表面熒光特性顆粒檢測(cè)的裝置及方法。
背景技術(shù)
高功率固體激光裝置的建造需要數(shù)量巨大、種類繁多的光學(xué)元件,以NIF為例,全裝置共包含7460塊大口徑光學(xué)元件(0.5~1.0m),使其不僅成為世界最大的激光器,也是迄今為止最大的光學(xué)系統(tǒng)。激光裝置在高通量運(yùn)行條件下,光學(xué)元件表面的顆粒污染物在強(qiáng)激光的作用下會(huì)誘導(dǎo)損傷,是導(dǎo)致局部破壞的主要因素。因此,對(duì)光學(xué)元件的表面污染情況進(jìn)行檢測(cè)是非常有必要的。光學(xué)元件從制造到運(yùn)輸再到裝校,整個(gè)過程中人是最大的污染源,80%以上的粒子都是由人產(chǎn)生和散布的,而由人產(chǎn)生的所有粒子都具有熒光性,因此對(duì)光學(xué)元件表面熒光特性顆粒進(jìn)行檢測(cè)對(duì)于控制光學(xué)元件表面潔凈度非常重要。另外,光學(xué)元件造價(jià)非常昂貴,其中一部分還是鍍膜元件,這就意味著對(duì)于光學(xué)元件表面顆粒檢測(cè)只能采用非接觸式無(wú)損檢測(cè)。中國(guó)專利——檢測(cè)精密光學(xué)元件表面顆粒物的在線檢測(cè)系統(tǒng)及應(yīng)用方法(CN201611233039.3)中采用暗場(chǎng)成像的方式來(lái)檢測(cè)光學(xué)元件表面顆粒,但該裝置屬于固定安裝的在線檢測(cè)設(shè)備,不能隨意移動(dòng),且該裝置對(duì)于環(huán)境要求較高,拍攝環(huán)境中不能有其他雜散光源,再者,該方法的檢測(cè)結(jié)果誤差較大,檢測(cè)到的顆粒尺寸較實(shí)際的顆粒尺寸偏大2-3倍。所以發(fā)明一套便攜、誤差更小、對(duì)環(huán)境要求較低的用于光學(xué)元件表面顆粒無(wú)接觸式檢測(cè)的裝置及方法成為目前光學(xué)元件表面潔凈檢測(cè)急需解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是解決至少上述問題和/或缺陷,并提供至少后面將說明的優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的這些目的和其它優(yōu)點(diǎn),提供了一種用于光學(xué)元件表面熒光特性顆粒檢測(cè)的裝置,包括:
紫外熒光成像系統(tǒng),其連接有控制電腦;
運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述紫外熒光成像系統(tǒng)設(shè)置在運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上。
優(yōu)選的是,其中,所述紫外熒光成像系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)包括:
CCD相機(jī),其下方固定設(shè)置有成像鏡頭,所述成像鏡頭下方固定設(shè)置有環(huán)形紫外光源。
優(yōu)選的是,其中,所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)包括:
框架結(jié)構(gòu)的底座,其上設(shè)置有兩個(gè)平行布置的縱向?qū)к墸?/p>
橫向?qū)к墸鋬啥朔謩e設(shè)置有滑塊Ⅰ,所述橫向?qū)к壨ㄟ^滑塊Ⅰ滑動(dòng)設(shè)置在兩個(gè)縱向?qū)к壣希?/p>
滑塊Ⅱ,其滑動(dòng)設(shè)置在所述橫向?qū)к壣希宜龌瑝KⅡ上固定設(shè)置有豎直導(dǎo)軌,所述豎直導(dǎo)軌上滑動(dòng)設(shè)置有支架,所述紫外熒光成像系統(tǒng)安裝在支架上。
優(yōu)選的是,其中,所述支架的結(jié)構(gòu)包括:
相機(jī)板,其上設(shè)置有滑槽,所述相機(jī)板通過滑槽與所述豎直導(dǎo)軌滑動(dòng)連接且所述熒光成像系統(tǒng)安裝在相機(jī)板下端;
所述相機(jī)板兩側(cè)固定設(shè)置有夾持板,所述夾持板上螺紋連接有調(diào)節(jié)旋鈕,所述調(diào)節(jié)旋鈕的端部與豎直導(dǎo)軌相抵接。
優(yōu)選的是,其中,所述底座一側(cè)還設(shè)置有光學(xué)元件夾持機(jī)構(gòu),所述光學(xué)元件夾持機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)包括:
夾持底座,其上設(shè)置有兩個(gè)夾持導(dǎo)軌,所述夾持導(dǎo)軌上滑動(dòng)設(shè)置有夾持滑塊;
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





