[發(fā)明專利]一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011417366.0 | 申請日: | 2020-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN112458423A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 楊星;李長江;周文彬 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州晟成光伏設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司: | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 湯東鳳 |
| 地址: | 215000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 立式 雙面 鍍膜 夾具 | ||
1.一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具,其特征在于:該種用于立式雙面鍍膜的基板夾具包括下托盤、上托盤、基片、夾緊裝置和主體支架,所述夾緊裝置的鎖在主體支架上,下托盤和上托盤之間裝夾有基片,下托盤和上托盤通過夾緊裝置夾緊貼合,所述下托盤和上托盤上設(shè)有便于鍍膜的鏤空片位,鏤空片位的邊緣處向外延伸設(shè)置有邊緣擋塊,鏤空片位的四角處設(shè)置有四角擋塊,上托盤四周框架邊緣設(shè)置有梯形凸臺,下托盤上設(shè)置有與梯形凸臺配合的梯形凹槽,基片被邊緣擋塊和四角擋塊限制在中間狹小的空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具,其特征在于:所述夾緊裝置包括鎖緊螺柱、彈簧和擋板,所述鎖緊螺柱鎖附在主體支架上,鎖緊螺柱上從上到下依次套有彈簧和擋板,所述擋板延伸部位于下托盤和上托盤上方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具,其特征在于:所述邊緣擋塊設(shè)計為矩形、半圓、三角形或組合,鏤空片位邊緣垂直尺寸為0.1mm~10mm,鏤空片位邊緣平行尺寸為0.1mm~10mm,所述邊緣擋塊數(shù)量不限。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具,其特征在于:所述四角擋塊設(shè)計為直倒角、圓倒角或鏤空片位的四角處不設(shè)擋塊,倒角尺寸為0.1mm~10mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具,其特征在于:所述梯形凸臺與梯形凹槽相對應(yīng),梯形凸臺可完全置于梯形凹槽中并貼合,貼合后梯形面間隙小于0.01mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具,其特征在于:所述鏤空片位設(shè)計為單個片位或設(shè)計為多個片位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于立式雙面鍍膜的基板夾具,其特征在于:所述主體支架上設(shè)有與上托盤上鏤空片位相對的鏤空。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





