[發明專利]一種晶圓檢測裝置及線上成套設備

有效

• 申請號: 202011413410.0
• 申請日: 2020-12-07
• 公開（公告）號: CN112198169B
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 李海鵬
• 申請（專利權）人: 紫創（南京）科技有限公司
• 主分類號: G01N21/95
• 分類號: G01N21/95;G01N21/88;H01L21/66
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 崔熠

1.一種晶圓檢測裝置，其特征在于，包括光源模組，以及沿所述光源模組的光路傳輸方向設置的旋轉模組、光信號分揀模組和檢測模組，所述旋轉模組以所述光源模組的主光軸為中心旋轉；

所述光源模組出射的基波光束經所述旋轉模組以同一入射角下的不同方位角掃描入射位于加工裝置內的待測晶圓，由所述待測晶圓反射的基波光束經所述旋轉模組后入射所述光信號分揀模組，所述光信號分揀模組分揀出的非線性光信號輸入所述檢測模組，所述檢測模組根據所述非線性光信號以檢測所述待測晶圓的缺陷。

2.根據權利要求1所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，沿所述光源模組的光路傳輸方向，在所述光源模組和所述旋轉模組之間還設有光學鏡，所述光源模組出射的基波光束經所述光學鏡入射所述旋轉模組。

3.根據權利要求2所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述光學鏡包括透射區和反射區，所述光源模組出射的基波光束經所述透射區射向所述旋轉模組，由所述待測晶圓反射的基波光束經所述反射區射向所述光信號分揀模組。

4.根據權利要求3所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述光學鏡為中空鏡。

5.根據權利要求2所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述光學鏡為二向色鏡，所述光源模組出射的基波光束經所述二向色鏡透射向所述旋轉模組，由所述待測晶圓反射的基波光束經所述二向色鏡反射向所述光信號分揀模組。

6.根據權利要求1～5任意一項所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述旋轉模組包括旋轉驅動器和與所述旋轉驅動器連接的旋轉單元，所述旋轉驅動器驅動所述旋轉單元旋轉，所述旋轉單元以所述光源模組的主光軸為中心旋轉，將所述光源模組出射的基波光束導向所述待測晶圓。

7.根據權利要求6所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述旋轉單元包括位于所述光源模組的主光軸的旋轉棱鏡，以及環設于所述旋轉棱鏡的同一旋轉半徑上的球面反射鏡或者曲面反射鏡，所述球面反射鏡具有球面反射面，所述曲面反射鏡具有曲面反射面，所述光源模組出射的基波光束依次經所述旋轉棱鏡的入射面、所述球面反射面或者曲面反射面入射所述待測晶圓，由所述待測晶圓反射的基波光束經所述球面反射面或者曲面反射面、所述旋轉棱鏡的出射面射向所述光信號分揀模組。

8.根據權利要求7所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述旋轉棱鏡的入射面和所述旋轉棱鏡的出射面分別設有反光膜。

9.根據權利要求7所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述旋轉棱鏡包括相背設置的兩個反射鏡，兩個所述反射鏡的承光面相背設置，且所述承光面與水平面之間有夾角，所述承光面面向所述球面反射面或者曲面反射面反射基波光束。

10.根據權利要求1所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，在所述旋轉模組和所述光信號分揀模組之間還設有共焦模組，以縮小經所述待測晶圓產生的非線性光信號光束的旋轉半徑。

11.根據權利要求1所述的晶圓檢測裝置，其特征在于，所述光源模組包括光源和與所述光源連接的控制器，所述控制器控制所述光源輸出基波光束。

12.一種線上成套設備，其特征在于，包括加工裝置和如權利要求1～11任意一項所述的晶圓檢測裝置，所述加工裝置包括處理室和設在所述處理室內的承載臺，所述處理室用于對位于所述承載臺上的所述待測晶圓加工，所述處理室設有光學窗口，所述晶圓檢測裝置的光源模組出射的基波光束通過所述光學窗口入射所述待測晶圓，以在所述待測晶圓加工過程中檢測所述待測晶圓的缺陷。