[發明專利]層疊陶瓷電容器有效
| 申請號: | 202011413259.0 | 申請日: | 2020-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN112992544B | 公開(公告)日: | 2022-11-01 |
| 發明(設計)人: | 中野賢;村松諭;北條梨沙;野村善行 | 申請(專利權)人: | 株式會社村田制作所 |
| 主分類號: | H01G4/30 | 分類號: | H01G4/30;H01G4/224 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 樸云龍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 層疊 陶瓷 電容器 | ||
1.一種層疊陶瓷電容器,具備:
層疊體,包含層疊的多個電介質層以及多個內部電極層;和
外部電極,設置在所述層疊體的表面,并與所述內部電極層電連接,
在所述層疊陶瓷電容器中,
在所述層疊體的表面中的至少安裝面設置有硅烷偶聯劑層,
所述硅烷偶聯劑層包含氟系硅烷偶聯劑,
在將所述層疊體上的F原子相對于Ba原子的濃度比F/Ba作為硅烷偶聯劑濃度時,所述安裝面中的硅烷偶聯劑濃度為0.1以上且365以下,且比所述安裝面的對置面中的硅烷偶聯劑濃度高。
2.根據權利要求1所述的層疊陶瓷電容器,其中,
所述安裝面中的硅烷偶聯劑濃度為0.1以上且293以下。
3.根據權利要求1所述的層疊陶瓷電容器,其中,
將所述安裝面中的硅烷偶聯劑濃度設為A,將所述對置面中的硅烷偶聯劑濃度設為B,此時,硅烷偶聯劑的濃度比B/A為0.50以下。
4.根據權利要求2所述的層疊陶瓷電容器,其中,
將所述安裝面中的硅烷偶聯劑濃度設為A,將所述對置面中的硅烷偶聯劑濃度設為B,此時,硅烷偶聯劑的濃度比B/A為0.50以下。
5.根據權利要求1~4中的任一項所述的層疊陶瓷電容器,其中,
所述層疊體具有:第1主面以及第2主面,在層疊方向上相對;第1側面以及第2側面,在與所述層疊方向正交的長度方向上相對;和第3側面以及第4側面,在與所述層疊方向以及所述長度方向正交的寬度方向上相對,
所述層疊體的第1主面作為安裝面,第2主面作為對置面,
所述外部電極包含:第1外部電極,設置在所述層疊體的第1側面;和第2外部電極,設置在所述層疊體的第2側面,
將從繞入到所述層疊體的第1主面的所述第1外部電極的端部到所述層疊體的第1側面的距離設為EA1,將從繞入到所述層疊體的第2主面的所述第1外部電極的端部到所述層疊體的第1側面的距離設為EB1,此時,繞入到主面的第1外部電極的長度比EB1/EA1為0以上且0.5以下,
將從繞入到所述層疊體的第1主面的所述第2外部電極的端部到所述層疊體的第2側面的距離設為EA2,將從繞入到所述層疊體的第2主面的所述第2外部電極的端部到所述層疊體的第2側面的距離設為EB2,此時,繞入到主面的第2外部電極的長度比EB2/EA2為0以上且0.5以下。
6.根據權利要求1~4中的任一項所述的層疊陶瓷電容器,其中,
所述層疊陶瓷電容器的層疊方向上的尺寸T為50μm以上且200μm以下。
7.根據權利要求5所述的層疊陶瓷電容器,其中,
所述層疊陶瓷電容器的層疊方向上的尺寸T為50μm以上且200μm以下。
8.一種層疊陶瓷電容器,具備:
層疊體,包含層疊的多個電介質層以及多個內部電極層;和
外部電極,設置在所述層疊體的表面,并與所述內部電極層電連接,
在所述層疊陶瓷電容器中,
在所述層疊體的表面中的至少安裝面設置有硅烷偶聯劑層,
所述硅烷偶聯劑層包含碳系硅烷偶聯劑,
在將所述層疊體上的Si原子相對于Ba原子的濃度比Si/Ba作為硅烷偶聯劑濃度時,所述安裝面中的硅烷偶聯劑濃度為0.91以上且38.10以下,且比所述安裝面的對置面中的硅烷偶聯劑濃度高。
9.根據權利要求8所述的層疊陶瓷電容器,其中,
將所述安裝面中的硅烷偶聯劑濃度設為A,將所述對置面中的硅烷偶聯劑濃度設為B,此時,硅烷偶聯劑的濃度比B/A為0.50以下。
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