[發明專利]成像分析數據處理方法以及成像分析數據處理裝置

在審

• 申請號: 202011411547.2
• 申請日: 2020-12-04
• 公開（公告）號: CN113049670A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 押川倫憲
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: G01N27/64
• 分類號: G01N27/64
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種成像分析數據處理方法，包括以下步驟：

準備第一成像分析數據，所述第一成像分析數據是將通過在試樣的分析對象區域內的多個測定點的每個測定點處執行第一規定分析所獲取到的所述試樣中含有的目標物質的測定數據與該測定點的空間位置信息建立關聯而得到的數據；

準備第二成像分析數據，所述第二成像分析數據是將通過在所述多個測定點的每個測定點處執行第二規定分析所獲取到的所述試樣中含有的基準物質的測定數據與該測定點的空間位置信息建立關聯而得到的數據，其中，所述第二規定分析的分析方法及測定條件中的至少一方與所述第一規定分析不同；以及

基于在所述多個測定點的每個測定點處獲取到的所述基準物質的測定數據，將該測定點處的所述目標物質的測定數據進行標準化。

2.一種成像分析數據處理裝置，具備：

存儲部，其保存有第一成像分析數據和第二成像分析數據，其中，所述第一成像分析數據是將通過在試樣的分析對象區域內的多個測定點的每個測定點處執行第一規定分析所獲取到的所述試樣中含有的目標物質的測定數據與該測定點的空間位置信息建立關聯而得到的數據，所述第二成像分析數據是將通過在所述多個測定點的每個測定點處執行第二規定分析所獲取到的所述試樣中含有的基準物質的測定數據與該測定點的空間位置信息建立關聯而得到的數據，其中，所述第二規定分析的分析方法及測定條件中的至少一方與所述第一規定分析不同；以及

標準化執行部，其基于在所述多個測定點的每個測定點處獲取到的所述基準物質的測定數據，將該測定點處的所述目標物質的測定數據進行標準化。

3.根據權利要求2所述的成像分析數據處理裝置，其中，

所述第一成像分析數據是在所述多個測定點的每個測定點處獲取到的譜數據。

4.根據權利要求3所述的成像分析數據處理裝置，其中，

所述譜數據是質譜數據。

5.根據權利要求2所述的成像分析數據處理裝置，其中，

所述第二成像分析數據是在所述多個測定點的每個測定點處獲取到的譜數據。

6.根據權利要求5所述的成像分析數據處理裝置，其中，

所述標準化執行部使用所述譜數據所包含的峰中的一個峰的強度來將所述目標物質的測定數據進行標準化。

7.根據權利要求4所述的成像分析數據處理裝置，其中，

還具備標準化方法選擇部，所述標準化方法選擇部用于使使用者選擇提取離子電流標準化和總離子電流標準化中的任一個，

所述標準化執行部利用所述選擇出的方法將所述目標物質的測定數據進行標準化。