[發(fā)明專(zhuān)利]顯示設(shè)備在審
申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011409968.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-04 |
公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112951885A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-11 |
發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金彰穆;李寬熙;鄭智元;崔永瑞 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
主分類(lèi)號(hào): | H01L27/32 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/32 |
代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 張逍遙;劉燦強(qiáng) |
地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 設(shè)備 | ||
1.一種顯示設(shè)備,所述顯示設(shè)備包括:
基底;
像素層,位于所述基底上,包括多個(gè)顯示器件;
封裝構(gòu)件,封裝所述像素層;
光調(diào)制層,位于所述封裝構(gòu)件上;
功能層,位于所述光調(diào)制層上;以及
結(jié)合層,定位在所述光調(diào)制層與所述功能層之間以結(jié)合所述光調(diào)制層和所述功能層,
其中,所述光調(diào)制層具有與所述多個(gè)顯示器件對(duì)應(yīng)的開(kāi)口,并且
其中,所述結(jié)合層填充所述開(kāi)口且具有比所述光調(diào)制層的折射率大的折射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其中,所述結(jié)合層包括結(jié)合膜和分布在所述結(jié)合膜中的多個(gè)高折射率顆粒,并且
其中,所述結(jié)合層的所述折射率等于或大于1.6。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示設(shè)備,其中,所述結(jié)合層包括30wt%至60wt%的所述多個(gè)高折射率顆粒,并且
其中,所述結(jié)合層的所述折射率是1.6至1.8。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示設(shè)備,其中,所述結(jié)合層還包括分布在所述結(jié)合膜中的散射顆粒,并且
其中,所述散射顆粒的平均顆粒直徑比所述多個(gè)高折射率顆粒的平均顆粒直徑大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其中,所述開(kāi)口中的每個(gè)的內(nèi)壁包括傾斜的表面,并且
其中,所述光調(diào)制層的厚度是1.5μm至2.5μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示設(shè)備,其中,所述內(nèi)壁的下端具有凹進(jìn)的形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,所述顯示設(shè)備還包括位于所述封裝構(gòu)件與所述光調(diào)制層之間且包含感測(cè)電極的輸入感測(cè)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示設(shè)備,其中,所述感測(cè)電極包括形成網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的網(wǎng)格線,并且
其中,所述網(wǎng)格線與所述光調(diào)制層疊置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其中,所述多個(gè)顯示器件中的每個(gè)包括像素電極、位于所述像素電極上的包含發(fā)射層的中間層以及位于所述中間層上的對(duì)電極,并且
其中,從所述發(fā)射層發(fā)射的光的一部分被所述結(jié)合層與所述開(kāi)口之中的對(duì)應(yīng)的開(kāi)口的內(nèi)壁之間的界面全內(nèi)反射。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示設(shè)備,其中,所述功能層包括偏振層。
11.一種顯示設(shè)備,所述顯示設(shè)備包括:
顯示器件,用于發(fā)射光;
光調(diào)制層,位于所述顯示器件上且具有與所述顯示器件對(duì)應(yīng)的開(kāi)口;
結(jié)合層,填充所述開(kāi)口且定位在所述光調(diào)制層上;以及
功能層,定位在所述結(jié)合層上且經(jīng)由所述結(jié)合層結(jié)合到所述光調(diào)制層,
其中,所述光調(diào)制層具有第一折射率,并且所述結(jié)合層具有比所述第一折射率大的第二折射率,并且
其中,從所述顯示器件發(fā)射的光的一部分被所述開(kāi)口的內(nèi)壁與所述結(jié)合層之間的界面全內(nèi)反射。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備,其中,所述顯示器件包括像素電極、位于所述像素電極上的包含發(fā)射層的中間層以及位于所述中間層上的對(duì)電極,并且
其中,所述光調(diào)制層位于覆蓋所述像素電極的邊緣的絕緣層上。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備,所述顯示設(shè)備還包括位于所述顯示器件與所述光調(diào)制層之間的封裝構(gòu)件。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示設(shè)備,所述顯示設(shè)備還包括位于所述封裝構(gòu)件與所述光調(diào)制層之間且包含感測(cè)電極的輸入感測(cè)層。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示設(shè)備,其中,所述結(jié)合層包括結(jié)合膜和分布在所述結(jié)合膜中的多個(gè)高折射率顆粒。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
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