[發(fā)明專利]一種點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置、面陣色度測(cè)量裝置及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011406455.5
• 申請(qǐng)日: 2020-12-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112197863A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮曉帆;羅時(shí)文;鄭增強(qiáng);洪志坤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢精測(cè)電子集團(tuán)股份有限公司;武漢精立電子技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G01J3/28
• 分類號(hào): G01J3/28;G01J3/46
• 代理公司: 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42225
• 代理人: 張凱

1.一種點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置，其特征在于，所述裝置包括：

物鏡（1），其用于對(duì)目標(biāo)進(jìn)行成像；

點(diǎn)掃描組件（2），用于以二維點(diǎn)陣形式采集所述物鏡（1）對(duì)目標(biāo)的成像，得到二維點(diǎn)陣光，并將所述二維點(diǎn)陣光轉(zhuǎn)換成一維點(diǎn)陣光后出射；

準(zhǔn)直色散組件（3），其用于對(duì)所述一維點(diǎn)陣光進(jìn)行準(zhǔn)直處理、色散處理以及聚焦處理；

成像組件（4），其用于對(duì)經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直處理、色散處理以及聚焦處理的一維點(diǎn)陣光成像，獲得所述二維點(diǎn)陣光中各束光的光譜信息。

2.如權(quán)利要求1所述的點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置，其特征在于，所述點(diǎn)掃描組件（2）包括：

多根光導(dǎo)部件（20）；

多根所述光導(dǎo)部件（20）的一端以二維點(diǎn)陣形式排列，用于采集所述物鏡（1）對(duì)目標(biāo)的成像，得到所述二維點(diǎn)陣光；

多根所述光導(dǎo)部件（20）的另一端呈直線排列，以將所述二維點(diǎn)陣光轉(zhuǎn)換為一維點(diǎn)陣光出射；其中，

多根所述光導(dǎo)部件（20）以二維點(diǎn)陣形式排列的一端位于所述物鏡（1）的像平面。

3.如權(quán)利要求1所述的點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置，其特征在于，所述點(diǎn)掃描組件（2）包括：

多個(gè)以二維點(diǎn)陣形式排列第一光纖頭（21），用于采集所述物鏡（1）對(duì)目標(biāo)的成像，得到所述二維點(diǎn)陣光；

光耦合器（22），所述光耦合器（22）上設(shè)有多個(gè)一維排列的第二光纖頭（23），且所述第一光纖頭（21）通過(guò)光纖與相應(yīng)的所述第二光纖頭（23）連接，以將所述二維點(diǎn)陣光轉(zhuǎn)換成一維點(diǎn)陣光后出射；其中，

各所述第一光纖頭（21）位于所述物鏡（1）的像平面。

4.如權(quán)利要求3所述的點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置，其特征在于：

各所述第一光纖頭（21）通過(guò)光纖與所述光耦合器（22）的一側(cè)連接；

各所述第二光纖頭（23）通過(guò)光纖與所述光耦合器（22）的另一側(cè)連接。

5.如權(quán)利要求1所述的點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置，其特征在于，所述準(zhǔn)直色散組件（3）包括：

準(zhǔn)直鏡（30），其用于對(duì)所述一維點(diǎn)陣光進(jìn)行準(zhǔn)直處理；

色散部件（31），其用于對(duì)經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直處理的一維點(diǎn)陣光進(jìn)行色散處理；

聚焦鏡（32），其用于對(duì)經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直和色散處理的一維點(diǎn)陣光進(jìn)行聚焦處理，從而使得經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直和色散處理的一維點(diǎn)陣光在所述成像組件（4）上成像。

6.如權(quán)利要求5所述的點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置，其特征在于，所述點(diǎn)掃描組件（2）的出射端位于所述準(zhǔn)直鏡（30）的物方焦平面。

7.如權(quán)利要求6所述的點(diǎn)陣光譜測(cè)量裝置，其特征在于，所述裝置還包括狹縫部件（5）；

所述狹縫部件（5）位于所述準(zhǔn)直鏡（30）的物方焦平面上；

所述點(diǎn)掃描組件（2）的出射端靠近所述狹縫部件（5）；

所述狹縫部件（5）的狹縫長(zhǎng)度方向與所述點(diǎn)掃描組件（2）的出射端的排列方向平行。

8.一種點(diǎn)陣光譜測(cè)量方法，其特征在于，所述方法基于依次間隔設(shè)置的物鏡（1）、點(diǎn)掃描組件（2）、準(zhǔn)直色散組件（3）以及成像組件（4），所述方法包括以下步驟：

利用所述物鏡（1）對(duì)目標(biāo)進(jìn)行成像；

利用所述點(diǎn)掃描組件（2）以二維點(diǎn)陣的形式采集所述物鏡（1）對(duì)目標(biāo)的成像，得到二維點(diǎn)陣光，并將所述二維點(diǎn)陣光轉(zhuǎn)換成一維點(diǎn)陣光后出射；

利用所述準(zhǔn)直色散組件（3）對(duì)所述一維點(diǎn)陣光進(jìn)行準(zhǔn)直處理、色散處理以及聚焦處理；

利用所述成像組件（4）對(duì)經(jīng)過(guò)準(zhǔn)直處理、色散處理以及聚焦處理的一維點(diǎn)陣光成像，獲得所述二維點(diǎn)陣光中各束光的光譜信息。