[發明專利]運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置

在審

• 申請號: 202011406448.5
• 申請日: 2020-12-03
• 公開（公告）號: CN112387139A
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 周通;陳東達;巫旭;方道良;盧建波;沈李奇;趙重;周亞飛;王世榮;李紅利;李想
• 申請（專利權）人: 浙江科菲科技股份有限公司;金川集團股份有限公司
• 主分類號: B01F3/04
• 分類號: B01F3/04;B01F13/10;B01D53/52;B01D53/78;C25C1/08;C25C7/06;C22B23/00;C22B3/02;C22B3/44
• 代理公司: 北京艾皮專利代理有限公司 11777
• 代理人: 楊克

1.一種運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：包括射流氣液混合反應器（1）和旋流反應槽（2），所述旋流反應槽（2）中部設置有篩網（3），所述旋流反應槽（2）于篩網（3）之上設置有擾流板（4），所述旋流反應槽（2）頂部設置有PH計（6）、ORP計（7）、溫度計（8）、熱電阻（8-8）以及壓力傳感器（9），所述射流氣液混合反應器（1）安裝于旋流反應槽（2）的底部，所述射流氣液混合反應器（1）的兩相進口處分別安裝有氣用單向閥（10）和電磁流量計（11）。

2.根據權利要求1所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述射流氣液混合反應器（1）包括前段射流混合部件（12）以及后段靜態混合反應部件（13）。

3.根據權利要求2所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述前段射流混合部件（12）包括液相泵入組件（14）、氣相充入組件（15）以及射流混合器（16）；

所述液相泵入組件（14）包括連接于電磁流量計（11）進液端的液相管道（17）以及設置于液相管道（17）入口端的給液泵（18），所述給液泵（18）的入口端設置有進液閥（19），其出口端設置有出液閥（20）；

所述氣相充入組件（15）整體呈豎直安裝，其包括輸入接管（21）以及安裝短接管（22），所述氣用單向閥（10）安裝于輸入接管（21）和安裝短接管（22）之間；

所述射流混合器（16）包括連通于后段靜態混合反應部件（13）的吸入室（23）、連接于吸入室（23）的收縮段噴嘴（24），以及連接于吸入室（23）的擴散段（25），所述收縮段噴嘴（24）入口端與液相管道（17）連通，所述擴散段（25）入口端與安裝短接管（22）連通。

4.根據權利要求2所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述后段靜態混合反應部件（13）包括外管（26）以及設置于外管內的波紋切割內管（27），所述波紋切割內管（27）截面呈正六邊形，其管壁貫穿開設有穿流通孔（28）。

5.根據權利要求4所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述后段靜態混合反應部件（13）還設置有短接管道（29），所述短接管道（29）兩端均設置有三通管（30）連接于外管（26）的兩端，所述短接管道（29）設置有通斷球閥（31）。

6.根據權利要求1所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述旋流反應槽（2）底部設置有排渣口（32），所述排渣口（32）設置有排渣閥（33），所述旋流反應槽（2）頂部設置有尾氣調節口（34），所述旋流反應槽（2）頂部設置有多個溢流口（35）。

7.根據權利要求6所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述旋流反應槽（2）的頂部呈漏斗狀設計，多個所述溢流口（35）呈豎直開口向下狀設置于旋流反應槽（2）的頂部上沿。

8.根據權利要求1所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述旋流反應槽（2）對稱法蘭固定有兩個第一安裝定位組件（36），所述第一安裝定位組件（36）的定位桿延伸入旋流反應槽（2）內，所述篩網（3）焊接固定有螺母（37），所述第一安裝定位組件（36）的端部與螺母（37）螺紋配合。

9.根據權利要求1所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述旋流反應槽（2）對稱法蘭固定有兩個第二安裝定位組件（38），所述第二安裝定位組件（38）的定位桿延伸入旋流反應槽（2）內并設置有夾口（39），所述夾口（39）過盈夾緊固定擾流板（4）。

10.根據權利要求1所述的運用硫化氫氣體去除鎳電解混酸體系中銅離子的裝置，其特征在于：所述旋流反應槽（2）的頂部設置有檢修入口（40），所述檢修入口（40）法蘭固定有封閉端蓋（41）。