[發明專利]一種防壁面顆粒沉積的納米顆粒生成裝置

在審

• 申請號: 202011406221.0
• 申請日: 2020-12-03
• 公開（公告）號: CN112473554A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 趙海波;鄭朝和;徐祖偉
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: B01J2/04
• 分類號: B01J2/04;B01J19/14;B01J19/02;B82Y40/00
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 孔娜;李智

1.一種防壁面顆粒沉積的納米顆粒生成裝置，其特征在于，所述裝置包括：

燃燒室(100)；

設于所述燃燒室(100)上部并與所述燃燒室(100)貫通的輸運管道(200)；

所述燃燒室(100)和輸運管道(200)的內壁均間隙設有至少一個多孔套筒(300)，每一所述多孔套筒(300)的端部均通過隔板(310)與所述燃燒室(100)或輸運管道(200)密封連接，每一所述多孔套筒(300)對應的燃燒室(100)上均設有貫通所述燃燒室(100)壁面的保護氣入口(400)；

貫通所述燃燒室(100)和/或多孔套管(300)的載氣或前驅體入口(500)。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述保護氣入口(400)的形狀為圓柱形、漸擴圓管形或多邊形柱管中的一種。

3.根據權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述保護氣入口(400)的出口處設有氣帽或引流板。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，每一所述多孔套筒(300)對應的燃燒室(100)上均設有多個所述保護氣入口(400)。

5.根據權利要求4所述的裝置，其特征在于，所述多個保護氣入口(400)均勻分布于對應的所述燃燒室(100)上。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述燃燒室(100)或輸運管道(200)與對應的所述多孔套筒(300)的間隙間距不小于1mm且不大于所述燃燒室(100)內部腔室當量直徑的1/5。

7.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述多孔套筒(300)的透氣率大于或等于1CFM且小于1000CFM。

8.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述多孔套筒(300)的孔徑為0.01mm～1mm。

9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述多孔套筒(300)的材料為多孔材料或不銹鋼合金，當所述多孔套筒(300)的材料為多孔材料時，所述多孔套筒(300)的表面設有耐高溫材料。

10.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述燃燒室(100)底部對應的多孔套筒(300)上開孔的開口方向為垂直于所述多孔套筒(300)的壁面向上，且與所述壁面的夾角為75°～90°；和/或所述燃燒室(100)的主腔道下部的多孔套筒(300)上開孔的開口方向為垂直于所述多孔套筒(300)的壁面向下，且與壁面的夾角為45°～90°；和/或所述燃燒室(100)的主腔道的多孔套筒(300)上開孔的開口方向為垂直于所述多孔套筒(300)的壁面向上或向下，且與壁面的夾角為75°～90°；和/或所述燃燒室(100)的主腔道上部的多孔套筒(300)上開孔的開口方向為垂直于所述多孔套筒(300)的壁面向上，且與壁面的夾角為45°～90°；和/或所述燃燒室(100)漸縮部的多孔套筒(300)上開孔的開口方向為垂直于所述多孔套筒(300)的壁面向下，且與壁面的夾角為45°～90°。