[發明專利]一種快速自動調整光模塊發射眼圖參數的方法及裝置有效
| 申請號: | 202011405667.1 | 申請日: | 2020-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN112346242B | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發明(設計)人: | 葉飛 | 申請(專利權)人: | 長飛光纖光纜股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/00 | 分類號: | G02B27/00;G02B6/42 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 胡建平;張宇 |
| 地址: | 430073 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 快速 自動 調整 模塊 發射 參數 方法 裝置 | ||
本發明公開了一種快速自動調整光模塊發射眼圖參數的方法及裝置,屬于光模塊智能制造領域,首先從光模塊物理特性上,得到待調整眼圖參數與眼圖調整目標參數之間的函數關系;然后采集各待調整眼圖參數的當前值,結合測試得到的眼圖調整目標參數當前值,求解函數關系得到函數關系式中的待定系數值;最后基于待定系數值,通過眼圖調整目標參數需要調整到的具體值求解函數關系得到待調整眼圖參數值。通過本發明可以從光模塊和光器件的物理特性上,通過物理公式和數學計算快速得到想要的眼圖參數。通過本發明不需要事先對光器件的PIV參數進行測量,也不需要事先獲得光器件PIV曲線數據。
技術領域
本發明屬于光模塊智能制造領域,更具體地,涉及一種光模塊發射眼圖參數快速自動調整的方法及裝置。
背景技術
光模塊在生產制造時需要對眼圖參數,包括發射光功率、消光比、眼圖余量及交叉點等進行調整和測試,達到協議標準和出廠內控指標。傳統調整方法包括員工手動調整和效率較低的逼近法。員工手動調整不僅速度低而且沒有軟件自動調整的制程穩定,存在質量隱患。而逼近法類似于枚舉法,對于需要調整偏置電流,調制電流需要進行多次調整才能得到想要的眼圖調整結果,也存在調整速度緩慢,制程不穩定,不能保證合格模塊一定可以自動調好的問題。
發明內容
針對現有技術的以上缺陷或改進需求,本發明提出了一種快速自動調整光模塊發射眼圖參數的方法和裝置,可以從光模塊和光器件的物理特性上,通過物理公式和數學計算快速得到想要的眼圖參數,不需要事先對光器件的PIV參數進行測量,也不需要事先獲得光器件PIV曲線數據,可以適用于多種場合。
為實現上述目的,按照本發明的一個方面,提供了一種快速自動調整光模塊發射眼圖參數的方法,包括:
從光模塊物理特性上,得到待調整眼圖參數與眼圖調整目標參數之間的函數關系模型;
采集各待調整眼圖參數的當前值,結合測試得到的眼圖調整目標參數當前值,輸入所述函數關系模型并進行求解得到所述函數關系模型中的待定系數值;
基于所述待定系數值,通過眼圖調整目標參數需要調整到的具體值求解所述函數關系模型得到待調整眼圖參數值。
在一些可選的實施方案中,在所述光模塊為小于10G光模塊時,對于直接調制光模塊來說,所述待調整眼圖參數與眼圖調整目標參數之間的函數關系模型為:
其中,Er表示光模塊的消光比,Ib是光模塊的偏置電流,Im是光模塊的調制電流,Ith是光模塊的閾值電流。
在一些可選的實施方案中,在所述光模塊為小于10G光模塊時,所述從光模塊物理特性上,得到待調整眼圖參數與眼圖調整目標參數之間的函數關系模型,包括:
對于直接調制光模塊來說,邏輯1對應光功率P1為:P1=(Ib+Im-Ith)η,其中,Ib是光模塊的偏置電流,Im是光模塊的調制電流,Ith是光模塊的閾值電流,η是光模塊的光電轉化效率;
邏輯0對應光功率P0為:P0=(Ib-Ith)η,因此,光模塊平均輸出光功率為:PAve=(P1+P0)/2,光模塊消光比為:
在一些可選的實施方案中,在所述光模塊為小于10G光模塊時,對于外調制光模塊來說,所述待調整眼圖參數與眼圖調整目標參數之間的函數關系模型為:
其中,Er表示光模塊的消光比,Ib是光模塊的偏置電流,Im是光模塊的調制電流,Ith是光模塊的閾值電流。
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