[發(fā)明專利]一種利用導(dǎo)電材料富集和馴化高氯酸鹽還原菌群的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011405051.4 | 申請日: | 2020-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN112694987B | 公開(公告)日: | 2022-07-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏曼曼 | 申請(專利權(quán))人: | 青島科技大學(xué) |
| 主分類號: | C12N1/20 | 分類號: | C12N1/20;C12N1/02;C12N1/36;C12R1/01 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211 | 代理人: | 王志新 |
| 地址: | 266061 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 導(dǎo)電 材料 富集 馴化 氯酸鹽 還原 方法 | ||
1.一種利用導(dǎo)電材料富集和馴化高氯酸鹽還原菌群的方法,其特征在于,所述方法的具體步驟如下:
(1)制備基礎(chǔ)培養(yǎng)基:培養(yǎng)基由如下成分組成:0.95 g/L KH2PO4、1.5 g/L Na2HPO4?12H2O、1.8 g/L CH3COONa、0.12 g/L MgSO4·7H2O、0.3 g/L (NH4)2SO4和微量元素1 mL;將培養(yǎng)基進(jìn)行高壓蒸汽滅菌,通入氮?dú)馊コ齇2;所述微量元素為 0.1 g/L ZnSO4?7H2O、0.05g/L MnSO4?H2O、0.3 g/L H3BO3、0.2 g/L CaCl2?6H2O、0.01 g/L CuSO4?5H2O、0.02 g/LNiCl2?6H2O、0.03 g/L Na2MoO4?2H2O和0.03 g/L Na2SeO3;
(2)富集高氯酸鹽還原菌群:向填充石墨顆粒的厭氧反應(yīng)器中接種活性污泥,污泥接種濃度為18 g/L;向步驟(1)制備得到的培養(yǎng)基中添加0.1 g/L的NaClO4?H2O,然后將培養(yǎng)基泵入?yún)捬醴磻?yīng)器中,采用間歇進(jìn)水方式,每天以流速200 mL/h,進(jìn)水3 h,進(jìn)水量為600 mL,溫度控制在30℃,富集培養(yǎng)15天,得到高氯酸鹽還原菌群;所述填充石墨顆粒的厭氧反應(yīng)器中,石墨顆粒的粒徑為2-4 mm,填充密度為2 g/cm3;所述石墨顆粒是用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為32%的鹽酸溶液和蒸餾水依次清洗石墨顆粒三次,然后150℃烘干2 h,放入干燥器冷卻至室溫后填充到上流式厭氧反應(yīng)器中;
(3)馴化高氯酸鹽還原菌群:向步驟(1)制備得到的培養(yǎng)基中添加不同濃度的NaClO4?H2O,然后將培養(yǎng)基泵入到步驟(2)的厭氧反應(yīng)器中,在42 mL/h的進(jìn)水流速,48 h的水力滯留時(shí)間下連續(xù)運(yùn)行,當(dāng)出水ClO4-濃度相對進(jìn)水ClO4-濃度降低90%以上時(shí),在該濃度下運(yùn)行5d再逐漸提高進(jìn)水的培養(yǎng)基中ClO4-的濃度,所述進(jìn)水ClO4-濃度由0.1 g/L依次提高至0.6g/L、1.1 g/L、1.6 g/L、2.1 g/L、 2.6 g/L和3.1 g/L,直至ClO4-完全被還原,得到馴化后的高氯酸鹽還原菌群。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(2)所述活性污泥包括以下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的菌種:變形菌門(
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述變形菌門的各分支菌綱豐度如下:β-變形菌綱(
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