[發明專利]光空間分布測量系統及方法

在審

• 申請號: 202011404660.8
• 申請日: 2020-12-02
• 公開（公告）號: CN112378628A
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 劉召軍;莫煒靜;陳思凡;余兵飛;王書龍;黃利將
• 申請（專利權）人: 深圳市思坦科技有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 潘登

1.一種光空間分布測量系統，包括測量模塊和樣品模塊，其特征在于：

所述測量模塊包括測量移動平臺和亮度計，所述亮度計固定于所述測量移動平臺，所述測量移動平臺包括橫向導軌和縱向導軌，所述橫向導軌用于帶動所述亮度計水平橫向移動，所述縱向導軌用于帶動所述亮度計水平縱向移動；

所述樣品模塊包括樣品夾具和樣品移動平臺，所述樣品夾具固定于所述樣品移動平臺，所述樣品移動平臺包括水平轉臺和垂直轉臺，所述水平轉臺用于帶動所述樣品夾具水平旋轉，所述垂直轉臺用于帶動所述樣品夾具垂直旋轉。

2.根據權利要求1所述的光空間分布測量系統，其特征在于，還包括測量平臺，所述測量模塊和所述樣品模塊固定于所述測量平臺。

3.根據權利要求1或2所述的光空間分布測量系統，其特征在于，所述測量模塊與所述樣品模塊水平設置，所述樣品夾具固定于所述垂直轉臺。

4.根據權利要求3所述的光空間分布測量系統，其特征在于，所述測量移動平臺還包括亮度計支架，所述亮度計支架用于帶動所述亮度計垂直移動。

5.根據權利要求1或2所述的光空間分布測量系統，其特征在于，還包括支架，所述測量模塊通過所述支架固定于所述樣品模塊的上方。

6.根據權利要求1所述的光空間分布測量系統，其特征在于，所述樣品移動平臺還包括水平導軌，所述水平導軌固定于所述水平轉臺，所述垂直轉臺固定于所述水平導軌，所述垂直轉臺通過微調節桿在所述水平導軌上水平移動。

7.根據權利要求1所述的光空間分布測量系統，其特征在于，還包括控制模塊，所述控制模塊連接所述測量模塊和樣品模塊，用于根據用戶的操作控制橫向導軌、縱向導軌、水平轉臺和垂直轉臺。

8.根據權利要求8所述的光空間分布測量系統，其特征在于，還包括激光校準模塊，所述控制模塊還用于根據預先存儲的程序指令調用所述激光校準模塊進行系統校準。

9.根據權利要求1所述的光空間分布測量系統，其特征在于，所述樣品夾具包括夾具板和固定件，所述夾具板上設置有螺絲孔，所述固定件通過所述螺絲孔將樣品固定于所述夾具板。

10.一種光空間分布測量方法，使用如權利要求1-9任一所述的光空間分布測量系統，其特征在于，包括：

將待測樣品固定于樣品夾具；

通過測量移動平臺移動亮度計使得亮度計取光面積包括待測樣品上的待測光源；

通過水平轉臺和垂直轉臺帶動樣品夾具旋轉以使得亮度計采集待測光源不同角度的亮度值，得到三維光空間分布數據；

根據所述三維光空間分布數據確定待測光源的測量亮度值。