[發明專利]一種自適應分區多次預測方法及裝置

有效

• 申請號: 202011403779.3
• 申請日: 2020-12-04
• 公開（公告）號: CN112601081B
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發明（設計）人: 方瑞東;林聚財;江東;粘春湄;陳瑤;張政騰;殷俊
• 申請（專利權）人: 浙江大華技術股份有限公司
• 主分類號: H04N19/103
• 分類號: H04N19/103;H04N19/11;H04N19/176;H04N19/182;H04N19/513
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 張秀英

1.一種自適應分區多次預測方法，其特征在于，包括：

獲取當前預測單元的樣本特征，其中，所述當前預測單元的子塊或像素的樣本特征不完全相同；

基于所述樣本特征確定是否對所述當前預測單元的子塊或像素進行分區多次預測處理；

若確定結果為是，則對所述子塊或所述像素進行分區多次預測處理；

基于所述樣本特征確定是否對所述當前預測單元的子塊或像素進行分區多次預測處理包括：

根據所述樣本特征確定條件閾值；

對所述當前預測單元的每個子塊或每個像素執行以下步驟，其中，當前正在執行的子塊或像素稱為當前子塊或當前像素：

根據所述條件閾值設置所述當前子塊或所述當前像素是否做分區多次預測的第一標志，包括：若所述當前子塊的預測樣本的均值大于所述條件閾值，將所述第一標志設置為1；若所述當前子塊的預測樣本的均值小于或等于所述條件閾值，將所述第一標志設置為0；

根據所述第一標志確定是否對所述當前子塊或所述當前像素進行分區多次預測處理，包括：

若所述第一標志等于1，所述當前預測單元的水平方向是否做分區多次預測的第二標志等于1且垂直方向是否做分區多次預測的第三標志等于1，確定對所述當前子塊或所述當前像素在水平方向與垂直方向進行分區多次預測處理；

若所述第一標志等于1，所述第二標志等于1且所述第三標志等于0，確定對所述當前子塊或所述當前像素在所述水平方向進行分區多次預測處理；

若所述第一標志等于1，所述第二標志等于0且所述第三標志等于1，確定對所述當前子塊或所述當前像素在所述垂直方向進行分區多次預測處理；

若所述第一標志等于0，所述第二標志等于0且所述第三標志等于0，確定不對所述當前子塊或所述當前像素在所述垂直方向進行分區多次預測處理。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

確定所述樣本特征的第一均值；

確定所述當前預測單元的同位編碼單元CU的樣本特征的第二均值；

根據所述第一均值與所述第二均值更新所述條件閾值，得到更新后的所述條件閾值。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，根據所述第一均值與所述第二均值更新所述條件閾值，得到更新后的所述條件閾值包括：

確定所述第一均值與所述第二均值的差值；

將所述條件閾值與所述差值之和確定為更新后的所述條件閾值。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，根據所述樣本特征確定條件閾值包括：

將所述樣本特征的均值確定為條件閾值；

將所述樣本特征的最大值確定為條件閾值；或者

將所述樣本特征的最小值確定為條件閾值。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，對所述子塊或所述像素進行分區多次預測處理包括：

對所述子塊或所述像素進行仿射二次預測處理；

對所述子塊或所述像素進行幀內預測處理；

對所述子塊或所述像素進行編碼單元塊劃分。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法，其特征在于，獲取所述當前預測單元的樣本特征包括：

獲取所述當前預測單元的仿射預測樣本；

獲取所述當前預測單元的紋理，其中，所述紋理為當前子塊與同位子塊的絕對誤差和ASP；

獲取所述當前預測單元的偏差矩陣；

其中，所述樣本特征包括以下之一：所述仿射預測樣本、所述紋理、所述偏差矩陣。