[發(fā)明專利]含雙下室的調壓室布置結構及施工方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011403616.5 | 申請日： | 2020-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN112343017A | 公開（公告）日： | 2021-02-09 |
| 發(fā)明（設計）人： | 崔偉杰;陳麗芬;李高會;姚右文;袁翔;周天馳 | 申請（專利權）人： | 中國電建集團華東勘測設計研究院有限公司 |
| 主分類號： | E02B9/06 | 分類號： | E02B9/06;E02D29/045 |
| 代理公司： | 杭州九洲專利事務所有限公司 33101 | 代理人： | 韓小燕 |
| 地址： | 310014 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 含雙下室 調壓 布置 結構 施工 方法 | ||
1.一種含雙下室的調壓室布置結構，其特征在于：具有調壓室大井，調壓室大井下端經阻抗孔連通引水隧洞，所述調壓室大井下部、死水水位以下接有支洞，該支洞一端連通調壓室大井，另一端封閉。
2.根據(jù)權利要求1所述的含雙下室的調壓室布置結構，其特征在于：所述調壓室大井上接有兩個所述支洞，兩支洞關于調壓室大井軸線對稱布置。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的含雙下室的調壓室布置結構，其特征在于：所述支洞頂部具有從其封閉端至另一端斜向上的斜坡；支洞底部具有從其封閉端至另一端斜向下的斜坡。
4.根據(jù)權利要求3所述的含雙下室的調壓室布置結構，其特征在于：所述支洞頂部和底部分別設置1％～2％的坡度。
5.根據(jù)權利要求1或2所述的含雙下室的調壓室布置結構，其特征在于：所述支洞的頂高程位于死水位以下0.5～1m。
6.根據(jù)權利要求1或2所述的含雙下室的調壓室布置結構，其特征在于，所述支洞長度根據(jù)以下公式確定
其中，L為支洞的長度，m；Q0為機組的額定運行流量；S為水庫與調壓室間的隧洞長度，m；λ為系數(shù)，取3～5；B為支洞凈寬度；ΔH為死水位與引水隧洞最小壓力點高程的差值，m。
7.一種權利要求1～6任意一項所述含雙下室的調壓室布置結構的施工方法，其特征在于：
S01、開挖調壓室大井；
S02、調壓室大井開挖至支洞高程時，進行支洞全斷面開挖；
S03、支洞開挖完成進行支洞斷面襯砌施工，并在支洞與調壓室大井銜接部位預留錨筋或插筋，保證襯砌結構連接可靠。
S04、繼續(xù)開挖調壓室大井剩余部分，并完成襯砌。
8.根據(jù)權利要求7所述的施工方法，其特征在于：所述支洞可通過已建施工支洞改建，先進行施工，并成為調壓室大井開挖的通道，形成多個施工工作面，加快調壓室開挖進度。
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