[發明專利]一種基于聲表面波折射率場虛擬雕刻的聲光透鏡芯片

有效

• 申請號: 202011403567.5
• 申請日: 2020-12-04
• 公開（公告）號: CN112526777B
• 公開（公告）日: 2022-06-03
• 發明（設計）人: 韋學勇;秦咸明;陳軒;蔣莊德
• 申請（專利權）人: 西安交通大學
• 主分類號: G02F1/11
• 分類號: G02F1/11
• 代理公司: 西安智大知識產權代理事務所 61215
• 代理人: 賀建斌

1.一種基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)，其特征在于：包括壓電基底(1-1)，壓電基底(1-1)的一側設有叉指電極(1-2)，設有叉指電極(1-2)的壓電基底(1-1)的一側鍵合有固體介質(1-3)；

使用時，將所述的基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)放置在目標(2)前，基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)垂直于目標(2)所發出的光束放置，叉指電極(1-2)調節固體介質(1-3)的密度，在固體介質(1-3)內進行折射率場的虛擬雕刻；由目標(2)所發出的光線經過固體介質(1-3)內的折射率場調制后，光線產生偏轉，導致圖像的焦距產生變化；通過改變叉指電極(1-2)上的電壓，調整焦距，使得最終所呈的像為清晰的圖像(3)。

2.根據權利要求1所述的一種基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)，其特征在于：能夠使用聲表面波調制垂直于芯片入射的光線，并調節圖像的光強和清晰度。

3.根據權利要求1所述的一種基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)，其特征在于：所述的基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)為平面形狀的芯片，易于集成在MEMS系統中，且能夠直接附著在樣品上使用。

4.根據權利要求1所述的一種基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)，其特征在于：所述的基于聲表面波和聲光調制的平面可集成透鏡芯片(1)能夠用于散射介質，散射介質包括組織模型或皮下脂肪層，提高通過散射介質拍攝的圖像清晰度。