[發(fā)明專利]長焦抗光幕

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011397555.6
• 申請日: 2020-12-04
• 公開（公告）號: CN112578624B
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發(fā)明（設計）人: 李嘉彬;王茂貴;傅世民;徐耀男
• 申請（專利權）人: 弘勝光電股份有限公司
• 主分類號: G03B21/60
• 分類號: G03B21/60
• 代理公司: 北京世衡知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11686
• 代理人: 王志翔;肖淑芳

1.一種長焦抗光幕，其特征在于，包括：

基材；

光學結構層，該光學結構層系設在該基材的一面，該光學結構層設有多個光學微結構體，各該光學微結構體之間相隔一填補間距，并形成一填補空間，且各該光學微結構體由該基材之一面往遠離該基材的方向層疊地設有多個階段部，從該基材由下往上的各該階段部的外側面與該基材之間的夾角逐漸變大，各該階段部系為兩個梯形四面體，靠近該基材的其中一各梯形四面體為第一四面體，而較遠離該基材的另一梯形四面體為第二四面體；

吸光填補層，該吸光填補層系填補在該填補空間到達該第一四面體與該第二四面體交界處；

擴散填補層，該擴散填補層再填補在該填補空間的該吸光填補層之上，并填滿該填補空間；及

影像反射層，該影像反射層設在該擴散填補層與該光學結構層之上；

其中，該光學結構層與該吸光填補層之間的介接位置產(chǎn)生界面痕，而發(fā)生全反射，讓環(huán)境光被該吸光填補層吸收，而該擴散填補層調整該影像反射層的視角。

2.如權利要求1所述的長焦抗光幕，其特征在于，該第一四面體的外側面與該基材之間的具有第一夾角，該第一夾角角度系15度～30度，任意兩個相鄰第一四面體的底面之間的間距為5～15μm，該第一四面體的底面的尺寸系30～70μm，該第一四面體的高度系30～60μm。

3.如權利要求2所述的長焦抗光幕，其特征在于，該第二四面體的外側面與該基材之間的具有第二夾角，該第二夾角的角度大于第一夾角角度，該第二夾角角度系55度～85度，該第二四面體的底面的尺寸系25～40μm，該第二四面體的高度系10～30μm。

4.如權利要求1所述的長焦抗光幕，其特征在于，該影像反射層之上設有保護層。

5.如權利要求1所述的長焦抗光幕，其特征在于，該基材的另一面設有散射層，該散射層用于將入射的光線向該基材的方向散射。

6.如權利要求1所述的長焦抗光幕，其特征在于，該擴散填補層背對該吸光填補層之一面具有另一光學微結構。