[發明專利]基材膜、層疊體和它們的制造方法在審
| 申請號： | 202011396954.0 | 申請日： | 2020-12-03 |
| 公開（公告）號： | CN113031336A | 公開（公告）日： | 2021-06-25 |
| 發明（設計）人： | 祖父江彰二;仲西雄亮 | 申請（專利權）人： | 住友化學株式會社 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335;G02F1/13363;G02F1/1337;C08J7/04;C08L23/02;C08L67/00;C08L1/08;C08L33/02 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基材 層疊 它們 制造 方法 | ||
1.一種基材膜，其為待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜，
待涂布所述涂布液一側的表面中的硅元素量的標準偏差為0.04以上且0.09以下。
2.根據權利要求1所述的基材膜，其中，所述表面中的平均硅元素量為0.02原子％以上且1.0原子％以下。
3.根據權利要求1或2所述的基材膜，其中，所述基材膜包含選自環狀聚烯烴系膜、聚酯系膜、纖維素酯系膜和聚(甲基)丙烯酸系膜中的1種以上。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的基材膜，其中，所述基材膜的厚度為100μm以下。
5.一種層疊體，其包含權利要求1～4中任一項所述的基材膜、以及液晶層。
6.根據權利要求5所述的層疊體，其中，所述液晶層為聚合性液晶化合物的固化層。
7.根據權利要求5或6所述的層疊體，其進一步在所述基材膜與所述液晶層之間具有取向層。
8.一種基材膜的制造方法，其是由加工前膜得到待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜的、基材膜的制造方法，包含：
邊搬運所述加工前膜，邊將輥抵接于成為所述基材膜中待涂布所述涂布液一側的所述加工前膜的表面的工序，
所述抵接的工序中的所述加工前膜的每單位截面積的張力為1.0N/mm2以上且2.5N/mm2以下。
9.根據權利要求8所述的基材膜的制造方法，其進一步包含以下工序中的至少一個工序：在所述抵接的工序后，用溶劑清洗所述加工前膜的所述表面的工序；和在所述抵接的工序后，對所述加工前膜的所述表面以200W·min/m2以上的處理量進行電暈處理的工序。
10.一種基材膜的制造方法，其是由加工前膜得到待涂布包含液晶化合物的涂布液的基材膜的、基材膜的制造方法，包含：
邊搬運所述加工前膜，邊將輥抵接于成為所述基材膜中待涂布所述涂布液一側的所述加工前膜的表面的工序，以及
以下工序中的至少一個工序：在所述抵接的工序后，用溶劑清洗所述加工前膜的所述表面的工序；和在所述抵接的工序后，對所述加工前膜的所述表面以200W·min/m2以上的處理量進行電暈處理的工序。
11.根據權利要求8～10中任一項所述的基材膜的制造方法，其中，所述輥是用于除去在所述加工前膜的所述表面附著的異物的清潔輥。
12.根據權利要求8～11中任一項所述的基材膜的制造方法，其中，所述輥至少表面由硅酮橡膠形成。
13.一種層疊體的制造方法，其是包含基材膜和液晶層的層疊體的制造方法，包含：
對權利要求1～4中任一項所述的基材膜、或通過權利要求8～12中任一項所述的基材膜的制造方法制造的所述基材膜，涂布包含液晶化合物的涂布液的工序。
14.根據權利要求13所述的層疊體的制造方法，其中，所述液晶化合物為聚合性液晶化合物，所述制造方法包含：
在所述涂布的工序后，在所述基材膜上將所述聚合性液晶化合物聚合固化的工序。
15.根據權利要求14所述的層疊體的制造方法，其中，所述涂布的工序包含：
在所述基材膜形成取向層，并在所述取向層上涂布所述涂布液的工序。
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