[發明專利]一種超高增益有機放大器及其制備方法在審
| 申請號: | 202011394499.0 | 申請日: | 2020-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN112530989A | 公開(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發明(設計)人: | 王欣然;羅中中;施毅 | 申請(專利權)人: | 南京大學 |
| 主分類號: | H01L27/28 | 分類號: | H01L27/28;H01L51/00;H01L51/05;H01L51/40;A61B5/30;A61B5/308;A61B5/318 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 吳飛 |
| 地址: | 210008 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 超高 增益 有機 放大器 及其 制備 方法 | ||
1.一種超高增益有機放大器,其特征在于,該超高增益有機放大器由一個驅動晶體管和一個負載晶體管串聯構成,其中負載晶體管的柵極與源極短接;所述驅動晶體管和負載晶體管的柵極介電層為鐵電性氧化物薄膜,半導體溝道層為有機分子薄膜。
2.根據權利要求1所述的超高增益有機放大器,其特征在于,所述鐵電性氧化物薄膜為鉿基鐵電性氧化物薄膜、鈣鈦礦結構鐵電氧化物薄膜中的一種。
3.根據權利要求1所述的超高增益有機放大器,其特征在于,所述有機分子薄膜為有機小分子半導體薄膜、有機聚合物半導體薄膜中的一種。
4.一種權利要求1所述的超高增益有機放大器的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)根據有機放大器的結構,在襯底上制備局域柵極金屬層;
(2)在局域柵極金屬層表面生長鐵電性氧化物薄膜作為介電層;
(3)在介電層表面生長單層有機分子薄膜作為半導體溝道層;
(4)在半導體溝道層表面制備電極層。
5.根據權利要求4所述的超高增益有機放大器的制備方法,其特征在于,步驟(1)中,所述襯底為剛性襯底或柔性襯底。
6.根據權利要求4所述的超高增益有機放大器的制備方法,其特征在于,所述介電層還包括生長在鐵電性氧化物薄膜表面、用作電容匹配的非鐵電性氧化物薄膜。
7.根據權利要求6所述的超高增益有機放大器的制備方法,其特征在于,所述非鐵電氧化物薄膜為氧化鋁、氧化鋯、氧化硅、氧化鉿、氧化鈦中的一種。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





