[發明專利]微機械光學構件和用于制造微機械光學構件的方法

在審

• 申請號: 202011388558.3
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112909728A
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發明（設計）人: J·賴因穆特
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: H01S5/022
• 分類號: H01S5/022;H01S5/02257;H01S5/02315;H01S5/0235;H01S5/0233
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 侯鳴慧

1.微機械光學構件，該微機械光學構件具有光學窗(140)、間隔保持件(110)和構件襯底(19)，

-其中，所述間隔保持件(110)具有缺口，該缺口形成腔(30)，該腔由所述光學窗和所述構件襯底限界，

-其中，在所述腔中布置有光學半導體組件(18)，該光學半導體組件固定在所述構件襯底上并且設置成用于發射光輻射經過所述光學窗，

-其中，所述光學窗和所述間隔保持件借助于第一材料鎖合連接部(5)相互連接，

-其中，所述間隔保持件和所述構件襯底借助于第二材料鎖合連接部(15)相互連接，

-其中，在朝著所述光學窗的俯視圖中，所述第一材料鎖合連接部布置在所述光學窗下方，并且所述第二材料鎖合連接部布置在所述光學窗旁邊。

2.根據權利要求1所述的微機械光學構件，其特征在于，所述光學窗(140)是玻璃。

3.根據權利要求1或2所述的微機械光學構件，其特征在于，所述構件襯底(19)是陶瓷。

4.根據前述權利要求中任一項所述的微機械光學構件，其特征在于，所述第一材料鎖合連接部(5)和/或所述第二材料鎖合連接部(15)是密封玻璃鍵合部。

5.根據前述權利要求中任一項所述的微機械光學構件，其特征在于，所述腔(30)嚴密密封地閉合。

6.根據前述權利要求中任一項所述的微機械光學構件，其特征在于，所述間隔保持件(110)在面向所述構件襯底(19)的表面上具有第一吸收層(9)和/或所述光學窗(140)在鄰接于所述腔(30)的表面上具有第二吸收層(10)。

7.根據權利要求6所述的微機械光學構件，其特征在于，所述第一吸收層(9)和所述第二吸收層(10)由相同材料組成。

8.用于制造微機械光學構件的方法，具有以下步驟：

A:提供具有缺口的間隔件晶片；

B:通過第一材料鎖合連接部連接所述間隔件晶片與玻璃晶片；

C:通過鋸切所述玻璃晶片并且移除多余的玻璃部分制造窗；

D:提供構件襯底，該構件襯底具有固定在所述構件襯底上的光學半導體組件；

E:將所述構件襯底安放到所述間隔件晶片上，使得所述光學半導體組件布置在所述缺口中，

F:借助于透射鍵合連接所述構件襯底與所述間隔件晶片，其中，射束從所述窗的側面出發、在所述窗旁邊并且穿過所述間隔件晶片地定向。

9.根據權利要求8所述的用于制造光學構件的方法，其特征在于，在步驟B中，在已經將密封玻璃涂覆到所述間隔件晶片和/或所述玻璃晶片上之后，通過密封玻璃鍵合部制造所述第一材料鎖合連接部。

10.根據權利要求8或9所述的用于制造光學構件的方法，其特征在于，在步驟F中，在已經將密封玻璃涂覆到所述間隔件晶片和/或所述構件襯底上之后，通過密封玻璃鍵合部制造第二材料鎖合連接部。

11.根據權利要求8至10中任一項所述的用于制造光學構件的方法，其特征在于，在步驟E之前，將第一吸收層涂覆到所述間隔件晶片的背離所述光學窗的一側上。

12.根據權利要求8至11中任一項所述的用于制造光學構件的方法，其特征在于，在步驟E之前，將第二吸收層涂覆到所述光學窗的面向所述間隔件晶片的一側上。

13.根據權利要求11和12所述的用于制造光學構件的方法，其特征在于，在步驟B之后，同時涂覆所述第一吸收層和所述第二吸收層，其中，尤其所述間隔件晶片作為用于所述第二吸收層到所述光學窗上的結構化涂覆的掩模使用。