[發(fā)明專(zhuān)利]電子裝置及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011387323.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112987364A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃信豪;賴(lài)柜宏 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 群創(chuàng)光電股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02F1/1333 | 分類(lèi)號(hào): | G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139 | 代理人: | 侯奇慧 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子 裝置 及其 制作方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種電子裝置及其制作方法。電子裝置包括一第一可撓性基板、一第二可撓性基板以及一密封材料。第一可撓性基板具有一第一激光切割緩沖區(qū),且第一可撓性基板包括一第一邊緣。第二可撓性基板具有一第二激光切割緩沖區(qū),且第二可撓性基板包括一第二邊緣。密封材料設(shè)置于第一可撓性基板與第二可撓性基板之間。密封材料與第一邊緣相距第一激光切割緩沖區(qū),且密封材料與第二邊緣相距第二激光切割緩沖區(qū)。以此,降低密封材料的裂解。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種電子裝置及其制作方法,特別是涉及一種以可撓性基板作為基板的電子裝置及其制作方法。
背景技術(shù)
隨著科技的進(jìn)步,顯示設(shè)備逐漸朝向輕薄的趨勢(shì)發(fā)展。在液晶顯示設(shè)備中,玻璃基板可用塑料制成的可撓性基板所取代,以降低整體重量并縮減整體厚度(可稱(chēng)為塑料液晶顯示設(shè)備(plastic liquid crystal display,PLCD))。現(xiàn)有制作PLCD的方法是一次制作多個(gè)PLCD,然后再將PLCD切割開(kāi)。然而,在切割多個(gè)PLCD時(shí)仍存在一些問(wèn)題,例如激光切割會(huì)產(chǎn)生高溫,因此當(dāng)切割線(xiàn)距離密封膠過(guò)近時(shí),密封膠容易產(chǎn)生裂解,而造成液晶外漏。
發(fā)明內(nèi)容
依據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例,公開(kāi)了一種電子裝置。電子裝置包括一第一可撓性基板、一第二可撓性基板以及一密封材料。第一可撓性基板具有一第一激光切割緩沖區(qū),且第一可撓性基板包括一第一邊緣。第二可撓性基板具有一第二激光切割緩沖區(qū),且第二可撓性基板包括一第二邊緣。密封材料設(shè)置于第一可撓性基板與第二可撓性基板之間。密封材料與第一邊緣相距第一激光切割緩沖區(qū),且密封材料與第二邊緣相距第二激光切割緩沖區(qū)。
依據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例,公開(kāi)了一種電子裝置的制作方法。首先,提供一母面板,其中母面板包括一第一可撓性母板、一第二可撓性母板以及至少一密封材料,且密封材料設(shè)置于第一可撓性母板與第二可撓性母板之間。接著,進(jìn)行一分離制程,以將第一可撓性母板切割成一第一可撓性基板,以及將第二可撓性母板切割成一第二可撓性基板,其中分離制程包括進(jìn)行一激光切割制程。第一可撓性基板具有一第一激光切割緩沖區(qū),第一可撓性基板包括一第一邊緣,第二可撓性基板具有一第二激光切割緩沖區(qū),且第二可撓性基板包括一第二邊緣。密封材料與第一邊緣相距第一激光切割緩沖區(qū),且密封材料與第二邊緣相距第二激光切割緩沖區(qū)。
附圖說(shuō)明
圖1所示為本發(fā)明一實(shí)施例的電子裝置的制作方法流程圖;
圖2所示為本發(fā)明一實(shí)施例的電子裝置的制作方法中一步驟的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3所示為圖2沿著剖線(xiàn)A-A’的剖視示意圖;
圖4所示為本發(fā)明第一實(shí)施例的電子裝置的俯視示意圖;
圖5所示為本發(fā)明第一實(shí)施例的電子裝置的部分放大俯視與剖視示意圖;
圖6所示為本發(fā)明一些實(shí)施例的電子裝置的制作方法示意圖;
圖7所示為本發(fā)明第二實(shí)施例的電子裝置的剖視示意圖;
圖8所示為本發(fā)明第三實(shí)施例的電子裝置的剖視示意圖;以及
圖9所示為本發(fā)明第四實(shí)施例的電子裝置的俯視示意圖。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線(xiàn)性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線(xiàn)性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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