[發明專利]一種定位測試場景的分類方法、裝置、設備及存儲介質

有效

• 申請號: 202011386443.0
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112396125B
• 公開（公告）日: 2022-11-18
• 發明（設計）人: 劉陽;王碩;高洪偉;李璇;黃志福;張金柱
• 申請（專利權）人: 中國第一汽車股份有限公司
• 主分類號: G06V10/764
• 分類號: G06V10/764;G06V20/52;G06V20/13
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 范坤坤

1.一種定位測試場景的分類方法，其特征在于，包括：

獲取當前測試場景的待分類圖像；

確定所述待分類圖像中遮擋物的類別，并確定待分類圖像的面積和各類遮擋物的面積；

基于各類遮擋物的總面積和所述待分類圖像的面積，確定遮擋程度，其中，所述遮擋程度包括無遮擋、低遮擋、中遮擋、高遮擋以及超高遮擋中的至少一種；

根據所述遮擋程度和輻射源的輻射類別，確定所述待分類圖像的場景分類結果。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述確定所述待分類圖像中遮擋物的類別，包括：

將所述待分類圖像輸入至預先訓練完成的分類模型，得到各類遮擋物的標簽，根據所述標簽確定所述遮擋物的類別，其中，所述訓練完成的分類模型根據樣本場景圖像和攜帶標簽的樣本分類圖像對初始的分類模型進行監督訓練得到。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于各類遮擋物的總面積和所述待分類圖像的面積，確定遮擋程度，包括：

計算所述各類遮擋物的總面積和所述待分類圖像的面積的第一比值；

將所述第一比值與至少一個第一遮擋閾值進行比較，確定所述遮擋程度。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述根據所述遮擋程度和輻射源的輻射類別，確定所述待分類圖像的場景分類結果之前，所述方法還包括：

計算所述遮擋程度為高遮擋或超高遮擋的所述各類遮擋物的面積與各類遮擋物的總面積的第二比值，以及計算所述遮擋程度為中遮擋的所述各類遮擋物的面積與各類遮擋物的總面積的第三比值；

將所述第二比值與第二遮擋閾值和第三遮擋閾值進行比較，確定遮擋程度為高遮擋或超高遮擋對應的第一遮擋源類別，以及將所述第三比值與所述第二遮擋閾值和所述第三遮擋閾值進行比較，確定遮擋程度為中遮擋對應的第二遮擋源類別。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述將所述第二比值與第二遮擋閾值和第三遮擋閾值進行比較，確定遮擋程度為高遮擋或超高遮擋對應的第一遮擋源類別，包括：

如果所述遮擋程度為高遮擋或超高遮擋的任一遮擋物的第二比值大于或等于所述第二遮擋閾值，將該遮擋物作為主要遮擋源；

如果所述遮擋程度為高遮擋或超高遮擋的任一遮擋物的第二比值小于或等于所述第二遮擋閾值，且大于或等于所述第三遮擋閾值，將該遮擋物作為次要遮擋源；

基于所述主要遮擋源和所述次要遮擋源，確定所述遮擋程度為高遮擋或超高遮擋對應的第一遮擋源類別。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述將所述第三比值與所述第二遮擋閾值和所述第三遮擋閾值進行比較，確定遮擋程度為中遮擋對應的第二遮擋源類別，包括：

如果所述遮擋程度為中遮擋的任一遮擋物的第三比值大于或等于所述第二遮擋閾值，將該遮擋物作為遮擋程度為中遮擋的主要遮擋源；

將遮擋程度為中遮擋的主要遮擋源對應的遮擋類別作為所述第二遮擋源類別。

7.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據所述遮擋程度和輻射源的輻射類別，確定所述待分類圖像的場景分類結果，包括：

根據所述輻射源的數量以及輻射源與所述當前測試場景的距離，確定所述輻射類別，其中，所述輻射類別包括強輻射、弱輻射和無輻射中的至少一個；

將遮擋物的遮擋程度為無遮擋和低遮擋對應的遮擋類別作為第三類別遮擋源；

將所述第一遮擋源類別、所述第二遮擋源類別、所述第三類別遮擋源和各輻射類別進行組合，得到所述待分類圖像的場景分類結果。