[發(fā)明專(zhuān)利]一種混合驅(qū)動(dòng)的二維MEMS微鏡及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011385042.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112363314A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳巧 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 蘇州知芯傳感技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B26/08 | 分類(lèi)號(hào): | G02B26/08 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 田凌濤 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 混合 驅(qū)動(dòng) 二維 mems 及其 制作方法 | ||
本發(fā)明涉及一種混合驅(qū)動(dòng)的二維MEMS微鏡及其制作方法,采用全新驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將壓電驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)和靜電驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了混合驅(qū)動(dòng)操作,其中設(shè)計(jì)基于環(huán)形外襯底(1),應(yīng)用靜電驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)對(duì)環(huán)形內(nèi)襯底(2)的驅(qū)動(dòng),并進(jìn)一步應(yīng)用環(huán)形內(nèi)襯底(2)與鏡面支撐(3)之間的壓電驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu),獲得對(duì)鏡面支撐(3)的驅(qū)動(dòng),驅(qū)動(dòng)電極通過(guò)轉(zhuǎn)軸引出,如此實(shí)現(xiàn)了混合驅(qū)動(dòng)操作,整個(gè)結(jié)構(gòu)能夠有效提高驅(qū)動(dòng)效率,并使的驅(qū)動(dòng)角度變大;同時(shí)本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)計(jì)了針對(duì)此二維MEMS微鏡的制作方法,采用制作工藝,僅需要SOI圓片作為基底層,便可以加工獲得所設(shè)計(jì)的二維MEMS微鏡,整個(gè)制作過(guò)程工藝簡(jiǎn)單,成品率高,同時(shí)整體結(jié)構(gòu)尺寸也會(huì)降低,成本得到降低。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種混合驅(qū)動(dòng)的二維MEMS微鏡及其制作方法,屬于微機(jī)電系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
MEMS(Micro-Electro-MechanicalSystems,微機(jī)電系統(tǒng))是一個(gè)制造微小器件,可同時(shí)集成多種物理場(chǎng)作用的新興領(lǐng)域。相對(duì)于傳統(tǒng)的機(jī)械,MEMS器件的尺寸更小,一般在微米到毫米量級(jí)。它基于半導(dǎo)體集成電路(IC)制作工藝,可大量利用IC生產(chǎn)中的成熟技術(shù)、工藝,進(jìn)行大批量、低成本生產(chǎn),使性?xún)r(jià)比相 對(duì)于傳統(tǒng)“機(jī)械”制造技術(shù)大幅度提高。梳齒結(jié)構(gòu)在MEMS器件中廣泛應(yīng)用,比如各種電容式傳感器包括加速度計(jì)、 陀螺儀等以及各種微驅(qū)動(dòng)器。一般的MEMS梳齒結(jié)構(gòu)都是平的,即梳齒的動(dòng)齒和固齒在同一個(gè)平面。這種梳齒在做驅(qū)動(dòng)時(shí)只能產(chǎn)生平面內(nèi)的運(yùn)動(dòng)。當(dāng)需要產(chǎn)生平面外運(yùn)動(dòng)時(shí),我們就需要高低梳齒,或叫垂直梳齒,即動(dòng)齒和固齒一高一低不在一個(gè)平面。高低梳齒結(jié)構(gòu)可以用來(lái)制作掃描微鏡,也是實(shí)現(xiàn)三軸加速度計(jì)、三軸MEMS電容式陀螺儀必不可少的結(jié)構(gòu)。現(xiàn)有的高低梳齒設(shè)計(jì)中,傳統(tǒng)的MEMES制造工藝?yán)面I合工藝分別刻蝕高低梳齒,或者利用多次光刻分別刻蝕高低梳齒,都需要高精度對(duì)準(zhǔn),對(duì)工藝要求 高且成品率低;SOI技術(shù)可以解決梳齒自對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題,但是同樣存在多次刻蝕,加工復(fù)雜的缺陷。
為實(shí)現(xiàn)二維掃描,靜電驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)需要分塊布置驅(qū)動(dòng)電極,采用gimbal結(jié)構(gòu),具有內(nèi)圈和外圈兩層結(jié)構(gòu)。為實(shí)現(xiàn)雙軸驅(qū)動(dòng),內(nèi)部與外部均布置有驅(qū)動(dòng)電極,驅(qū)動(dòng)電極有固定梳齒和活動(dòng)梳齒,固定梳齒的電引線很難連出,導(dǎo)致工藝復(fù)雜,也使得封裝變得更為復(fù)雜。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種混合驅(qū)動(dòng)的二維MEMS微鏡,采用全新驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),應(yīng)用壓電驅(qū)動(dòng)和靜電驅(qū)動(dòng)實(shí)現(xiàn)混合驅(qū)動(dòng)操作,能夠有效提高微鏡的工作效率。
本發(fā)明為了解決上述技術(shù)問(wèn)題采用以下技術(shù)方案:本發(fā)明設(shè)計(jì)了一種混合驅(qū)動(dòng)的二維MEMS微鏡,包括環(huán)形外襯底、環(huán)形內(nèi)襯底、鏡面支撐;其中,環(huán)形內(nèi)襯底的外徑小于環(huán)形外襯底的內(nèi)徑,環(huán)形內(nèi)襯底位于環(huán)形外襯底內(nèi),環(huán)形內(nèi)襯底外周上彼此相對(duì)兩側(cè)的位置分別通過(guò)第一轉(zhuǎn)軸對(duì)接環(huán)形外襯底內(nèi)側(cè)邊,環(huán)形內(nèi)襯底外周側(cè)邊兩連接第一轉(zhuǎn)軸的位置之間呈對(duì)稱(chēng)分布;
環(huán)形內(nèi)襯底外周上彼此相對(duì)的兩側(cè)邊上分別設(shè)置梳齒組,該兩側(cè)邊上分別所設(shè)梳齒組相對(duì)環(huán)形內(nèi)襯底外周側(cè)邊連接兩第一轉(zhuǎn)軸的位置連線呈軸對(duì)稱(chēng)分布;環(huán)形外襯底內(nèi)側(cè)邊上分別對(duì)應(yīng)環(huán)形內(nèi)襯底外周上兩梳齒組的位置分別設(shè)置梳齒組,環(huán)形外襯底內(nèi)側(cè)邊上各梳齒組中各根齒條的投影、分別與環(huán)形內(nèi)襯底外周上對(duì)應(yīng)位置梳齒組中各根齒條的投影彼此平行、且彼此相互交錯(cuò);
鏡面支撐的邊緣對(duì)接于環(huán)形內(nèi)襯底的內(nèi)側(cè)邊,鏡面支撐的上表面設(shè)置鏡面反射層;環(huán)形外襯底上表面設(shè)置各個(gè)焊盤(pán);通過(guò)向各個(gè)焊盤(pán)供電,在環(huán)形外襯底內(nèi)側(cè)邊梳齒組中各根齒條與環(huán)形內(nèi)襯底外周對(duì)應(yīng)位置梳齒組中各根齒條之間的相互作用力下,實(shí)現(xiàn)環(huán)形內(nèi)襯底相對(duì)其外周側(cè)邊所連第一轉(zhuǎn)軸的轉(zhuǎn)動(dòng),進(jìn)而獲得鏡面反射層隨鏡面支撐的轉(zhuǎn)動(dòng)。
作為本發(fā)明的一種優(yōu)選技術(shù)方案:還包括至少兩個(gè)壓電復(fù)合驅(qū)動(dòng)裝置,所述鏡面支撐的邊緣通過(guò)各壓電復(fù)合驅(qū)動(dòng)裝置分別對(duì)接所述環(huán)形內(nèi)襯底的內(nèi)側(cè)邊,通過(guò)向所述各個(gè)焊盤(pán)供電,在各壓電復(fù)合驅(qū)動(dòng)裝置的通電驅(qū)動(dòng)下,實(shí)現(xiàn)鏡面支撐與環(huán)形內(nèi)襯底的相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng),進(jìn)而獲得鏡面反射層隨鏡面支撐的轉(zhuǎn)動(dòng)。
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