[發(fā)明專利]一種測量膏體濃密機泥層高度的簡易高精度裝置及方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011384817.5
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112629621B
• 公開（公告）日: 2021-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王洪江;王小林;王勇;吳愛祥;張璽;彭青松
• 申請（專利權(quán)）人: 北京科技大學(xué)
• 主分類號: G01F23/42
• 分類號: G01F23/42
• 代理公司: 北京市廣友專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 11237
• 代理人: 張仲波

1.一種測量膏體濃密機泥層高度的簡易高精度裝置，其特征在于：包括線輪(1)、牽引繩(2)、輕質(zhì)容器(3)和尾砂漿(4)，牽引繩(2)一端纏繞在線輪(1)上，牽引繩(2)另一端連接輕質(zhì)容器(3)，輕質(zhì)容器(3)內(nèi)盛滿尾砂漿(4)；輕質(zhì)容器(3)置于泥層界面(6)；

該裝置的應(yīng)用方法，包括步驟如下：

S1：將輕質(zhì)容器(3)牢固系在牽引繩(2)的零刻度處，轉(zhuǎn)動線輪(1)將輕質(zhì)容器(3)輕輕下放至膏體濃密機泥層界面(6)處，確保牽引繩(2)稍稍收緊且垂直于膏體濃密機的溢流水面(9)；

S2：讀取牽引繩(2)在溢流水面(9)處的讀數(shù)，根據(jù)膏體濃密機泥層底部(8)到溢流水面(9)的垂直高度，換算得到膏體濃密機的泥層(7)高度；

其中，S2具體為：

S21：以膏體濃密機泥層界面(6)為界限，將膏體濃密機沿豎直方向劃分為沉降區(qū)(5)和壓密區(qū)；在沉降區(qū)(5)內(nèi)，尾砂漿濃度小于泥層界面(6)尾砂漿濃度；在壓密區(qū)內(nèi)，尾砂漿濃度大于泥層界面(6)尾砂漿濃度；

S22：定義膏體濃密機泥層界面處泥層壓力為0，膏體濃密機底部泥層壓力為：

P＝Δρgφ₀h₀

其中，P為膏體濃密機底部泥層壓力，Pa；Δρ為尾砂與水的密度差，kg/m³；g為重力加速度，9.8m/s²；h₀為固液分離初始高度，m；φ₀為料漿初始體積濃度，％；

S23：根據(jù)物料質(zhì)量守恒，尾砂漿平均濃度為：

其中，φ_av為平衡狀態(tài)時的尾砂漿平均濃度，％；h_f為固液分離最終高度，即濃密機泥層高度，m。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量膏體濃密機泥層高度的簡易高精度裝置，其特征在于：所述牽引繩(2)上帶有刻度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量膏體濃密機泥層高度的簡易高精度裝置，其特征在于：所述輕質(zhì)容器(3)裝滿尾砂漿(4)后密閉，輕質(zhì)容器(3)裝滿尾砂漿(4)后的整體密度與膏體濃密機泥層界面(6)尾砂漿的密度相同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量膏體濃密機泥層高度的簡易高精度裝置，其特征在于：所述輕質(zhì)容器(3)所裝尾砂漿(4)與進入膏體濃密機的尾砂漿為同一種尾砂物料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量膏體濃密機泥層高度的簡易高精度裝置，其特征在于：所述輕質(zhì)容器(3)裝滿尾砂漿(4)后在膏體濃密機泥層界面(6)處處于靜止?fàn)顟B(tài)。