[發(fā)明專利]定位方法、裝置、電子設(shè)備及計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011384057.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114585078A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-06-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蘭天;何明;蘇自翔;呂錚 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中移(成都)信息通信科技有限公司;中國(guó)移動(dòng)通信集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H04W64/00 | 分類號(hào): | H04W64/00;H04W4/029 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 趙秀芹 |
| 地址: | 610041 四川省成都市中國(guó)(四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 定位 方法 裝置 電子設(shè)備 計(jì)算機(jī) 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種定位方法,其特征在于,包括:
獲取終端的采樣數(shù)據(jù);
基于預(yù)設(shè)的指紋庫(kù)內(nèi)柵格中的每一基站的概率分布密度曲線,利用貝葉斯概率模型,計(jì)算出所述終端處于目標(biāo)柵格的聯(lián)合概率;
基于所述聯(lián)合概率,解算所述終端所在的目標(biāo)位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位方法,其特征在于,在所述基于預(yù)設(shè)的指紋庫(kù)內(nèi)柵格中的每一基站的概率分布密度曲線,利用貝葉斯概率模型,計(jì)算出所述終端處于目標(biāo)柵格的聯(lián)合概率之前,所述方法還包括:
采集指紋樣本數(shù)據(jù);
清洗所述指紋樣本數(shù)據(jù);
壓縮清洗后的指紋樣本數(shù)據(jù);
基于壓縮后的指紋樣本數(shù)據(jù),生成所述指紋庫(kù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的定位方法,其特征在于,在基于壓縮后的指紋樣本數(shù)據(jù),生成所述指紋庫(kù)之后,所述方法還包括:
迭代更新所述指紋庫(kù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的定位方法,其特征在于,所述迭代更新所述指紋庫(kù)包括:
對(duì)獲取的現(xiàn)網(wǎng)定位數(shù)據(jù)進(jìn)行清洗及緩存;
利用預(yù)設(shè)的SSGAN模型,在半監(jiān)督模式下,對(duì)緩存的現(xiàn)網(wǎng)定位數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)抗深度學(xué)習(xí);
將對(duì)抗深度學(xué)習(xí)后的現(xiàn)網(wǎng)定位數(shù)據(jù)更新至所述指紋庫(kù)中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的定位方法,其特征在于,所述基于所述聯(lián)合概率,解算所述終端所在的目標(biāo)位置,包括:
基于所述聯(lián)合概率,利用加權(quán)算法進(jìn)行柵格位置加權(quán),解算所述終端所在的所述目標(biāo)位置。
6.一種定位裝置,其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取終端的采樣數(shù)據(jù);
計(jì)算模塊,用于基于預(yù)設(shè)的指紋庫(kù)內(nèi)柵格中的每一基站的概率分布密度曲線,利用貝葉斯概率模型,計(jì)算出所述終端處于目標(biāo)柵格的聯(lián)合概率;
解算模塊,用于基于所述聯(lián)合概率,解算所述終端所在的目標(biāo)位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的定位裝置,其特征在于,所述裝置還包括:
采集模塊,用于采集指紋樣本數(shù)據(jù);
清洗模塊,用于清洗所述指紋樣本數(shù)據(jù);
壓縮模塊,用于壓縮清洗后的指紋樣本數(shù)據(jù);
生成模塊,用于基于壓縮后的指紋樣本數(shù)據(jù),生成所述指紋庫(kù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的定位裝置,其特征在于,所述裝置還包括:
更新模塊,用于迭代更新所述指紋庫(kù)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的定位裝置,其特征在于,所述更新模塊包括:
清洗緩存單元,用于對(duì)獲取的現(xiàn)網(wǎng)定位數(shù)據(jù)進(jìn)行清洗及緩存;
對(duì)抗深度學(xué)習(xí)單元,用于利用預(yù)設(shè)的SSGAN模型,在半監(jiān)督模式下,對(duì)緩存的現(xiàn)網(wǎng)定位數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)抗深度學(xué)習(xí);
更新單元,用于將對(duì)抗深度學(xué)習(xí)后的現(xiàn)網(wǎng)定位數(shù)據(jù)更新至所述指紋庫(kù)中。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的定位裝置,其特征在于,所述解算模塊,包括:
解算單元,用于基于所述聯(lián)合概率,利用加權(quán)算法進(jìn)行柵格位置加權(quán),解算所述終端所在的所述目標(biāo)位置。
11.一種電子設(shè)備,其特征在于,所述電子設(shè)備包括:處理器以及存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序指令的存儲(chǔ)器;
所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序指令時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的定位方法。
12.一種計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì),其特征在于,所述計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序指令,所述計(jì)算機(jī)程序指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的定位方法。
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