[發明專利]一種氣體水合物氣體飽和度的測量方法

有效

• 申請號: 202011383000.6
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112461812B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 周雪冰;梁德青;何勇;臧小亞;羅金瓊
• 申請（專利權）人: 中國科學院廣州能源研究所
• 主分類號: G01N21/65
• 分類號: G01N21/65;G01N30/02
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 周友元;莫瑤江

1.一種氣體水合物中氣體飽和度的測量方法，其特征在于，包括：

利用高壓反應釜在設定的溫度和壓力條件下生成氣體水合物，根據溫度、壓力和氣體水合物生成前后氣相組分，利用氣體狀態方程獲得水合物生成所消耗的各組分氣體含量，根據生成的氣體水合物的晶體結構計算出水合物中各組分氣體的飽和度；

從高壓反應釜中取出少量氣體水合物樣品并在液氮溫度下測量樣品的拉曼光譜，獲得水合物相中氣體分子和水分子的特征峰及峰強積分，以水分子的特征峰作為參考峰，計算出氣體分子特征峰的峰強積分與水分子特征峰的峰強積分的比值，得到氣體分子在氣體水合物中特征峰的相對峰強積分；

根據多次測量的水合物中各組分氣體飽和度和特征峰的相對峰強積分，通過線性擬合建立不同組分氣體的飽和度對特征峰的相對峰強積分的函數；

測量和計算水合物樣品中的某氣體組分特征峰的相對峰強積分，運用該氣體的飽和度對特征峰的相對峰強積分的函數計算出該氣體在水合物樣品中的氣體飽和度；

通過共聚焦拉曼光譜儀對氣體水合物中氣體飽和度進行測定，在共聚焦拉曼光譜儀測量過程中，采用功率為20-50毫瓦、波長為532納米氬離子激光作為測量光源，采用光柵刻線為1800或者2400刻線/mm，測量波數范圍為100-5000cm^-1，對氣體水合物晶體表面進行點掃，獲得氣體水合物中氣體分子和水分子的拉曼特征峰。