[發(fā)明專利]一種應用于投影光刻機的單倍率大視場投影曝光物鏡在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011382807.8 | 申請日: | 2020-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN112415865A | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊超;朱咸昌;唐燕;胡松;劉錫;金川;劉磊 | 申請(專利權)人: | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251 | 代理人: | 楊學明 |
| 地址: | 610209 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 應用于 投影 光刻 倍率 視場 曝光 物鏡 | ||
1.一種應用于投影光刻機的單倍率大視場投影曝光物鏡,其特征在于:該投影曝光物鏡采用雙遠心結構,即物鏡物方和像方主光線與光軸平行;投影物鏡分為前后兩部分:透鏡組Ⅰ和透鏡組Ⅱ,光闌位于透鏡組Ⅰ和透鏡組Ⅱ的共焦面;前后兩組透鏡共12片透鏡,其中透鏡組Ⅰ包括L1~L6六片透鏡,透鏡組Ⅱ包括L7~L12六片透鏡,且均為球面鏡。
2.根據(jù)權利要求1所述的應用于投影光刻機的單倍率大視場投影曝光物鏡,其特征在于:透鏡組Ⅰ和透鏡組Ⅱ至少由12片透鏡組成:除了L2~L3、L10~L11為正透鏡,其余均為負透鏡。
3.根據(jù)權利要求1所述的應用于投影光刻機的單倍率大視場投影曝光物鏡,其特征在于:透鏡組Ⅰ和透鏡組Ⅱ組成的物鏡系統(tǒng)至少由12片透鏡組成:透鏡組Ⅰ和透鏡組Ⅱ組成的系統(tǒng)放大倍率為-1。
4.根據(jù)權利要求1所述的應用于投影光刻機的單倍率大視場投影曝光物鏡,其特征在于:透鏡組Ⅰ和透鏡組Ⅱ組成的物鏡系統(tǒng)的工作波長為365±2nm,選用不同色散特性的材料校正系統(tǒng)色差,具體的:
1)負透鏡L1、L12,正透鏡L2~L5、L8~L11采用常用的冕玻璃,其材料特性為:
1.51Nd1.53
60.16Vd66.02
其中,Nd為負透鏡L1、L12,正透鏡L2~L5、L8~L11的折射率;Vd為其對應的色散系數(shù);
2)負透鏡L6、負透鏡L7采用火石玻璃,其材料特性滿足:
1.59Nd6~71.61
36.95Vd6~742.76
其中,Nd6~7為透鏡L6、L7的折射率;Vd6~7為其對應的色散系數(shù)。
5.根據(jù)權利要求1所述的應用于投影光刻機的單倍率大視場投影曝光物鏡,其特征在于:投影物鏡物像共軛距為1000mm,即系統(tǒng)總長為1000mm,結構緊湊;物方和像方工作距大于100mm,為后續(xù)系統(tǒng)結構設計留出足夠的空間,為滿足系統(tǒng)需求,投影物鏡結構滿足:
fI~II160。
6.根據(jù)權利要求1所述的應用于投影光刻機的單倍率大視場投影曝光物鏡,其特征在于:投影物鏡數(shù)值孔徑NA為0.05,分辨力為6μm;曝光視場為110mm×110mm;場曲優(yōu)于±5μm;畸變優(yōu)于±0.05μm,滿足光刻機需求。
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