[發明專利]一種錫滴探測和回收裝置

有效

• 申請號: 202011382113.4
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112702826B
• 公開（公告）日: 2022-06-28
• 發明（設計）人: 李艷麗;伍強
• 申請（專利權）人: 上海集成電路裝備材料產業創新中心有限公司;上海集成電路研發中心有限公司
• 主分類號: H05G2/00
• 分類號: H05G2/00
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;陳慧弘

1.一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，包括錫滴發射器、錫滴回收器和錫滴接收器，其中，所述錫滴發射器用于逐滴發射錫滴，所述錫滴經過錫滴接收器的反彈到達錫滴回收器中；

所述錫滴接收器包括基板、位于基板下方的接收板以及位于基板和接收板之間的壓電陶瓷，所述壓電陶瓷均勻分布在所述基板和接收板的周圍，所述基板和接收板為中心對稱圖形；

所述錫滴發射器和錫滴回收器對稱位于所述錫滴接收器的中心法線兩側。

2.根據權利要求1所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，所述錫滴發射器具有傾斜出口，所述傾斜出口的傾斜角度等于錫滴進入接收板的角度。

3.根據權利要求1所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，所述接收板的下表面為不銹鋼材質。

4.根據權利要求1所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，所述基板和接收板為正方形，所述壓電陶瓷為4個，4個壓電陶瓷分別位于基板和接收板的四個角。

5.根據權利要求4所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，所述基板和接收器的邊長為10-25mm。

6.根據權利要求4所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，所述基板和接收板沿著對稱中心以及水平方向和豎直方向均勻分為a區域、b區域、c區域和d區域，所述壓電陶瓷A位于a區域的角上，壓電陶瓷B位于b區域的角上，壓電陶瓷C位于c區域的角上，壓電陶瓷D位于d區域的角上；根據壓電陶瓷A、壓電陶瓷B、壓電陶瓷C和壓電陶瓷D的電壓值調整所述錫滴發射器的發射角度，確保所述錫滴進入到接收板的對稱中心。

7.根據權利要求6所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，當V_A＝V_B＝V_C＝V_D時，說明發射至接收板的錫滴正好進入到接收板的中心位置，無需對錫滴發射器進行調整；

當其中一個壓電陶瓷電壓大于其余三個壓電陶瓷電壓時，說明發射至接收板的錫滴偏向該壓電陶瓷，通過調整錫滴發射器的發射角度，控制發射到接收板的錫滴進入到接收板的對稱中心，使得四個壓電陶瓷電壓相等；

當其中兩個相鄰的壓電陶瓷電壓相等，另外兩個相鄰的壓電陶瓷電壓相等，且兩組壓電陶瓷電壓不相等時，說明發射至接收板的錫滴偏向電壓較大的兩個壓電陶瓷側，通過調整錫滴發射器的發射角度，控制發射到接收板的錫滴進入到接收板的對稱中心，使得四個壓電陶瓷電壓相等。

8.根據權利要求1所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，所述壓電陶瓷連接前置放大器和信號接收器，所述前置放大器將壓電陶瓷信號進行放大，并將放大之后的壓電陶瓷信號傳輸至信號接收器中。

9.根據權利要求8所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，所述錫滴發射器按照輸出脈沖發射錫滴，所述信號接收器顯示接收的脈沖間隔，將脈沖間隔和輸出脈沖進行比較，可以得出錫滴在發射時間上是否提前或者延遲。

10.根據權利要求1所述的一種錫滴探測和回收裝置，其特征在于，還包括EUV光源，所述EUV光源位于所述錫滴發射器和錫滴接收器之間，所述EUV光源用于發射脈沖激光束；被所述脈沖激光束擊中的錫滴產生極紫外輻射，未被所述脈沖激光束擊中的錫滴經過錫滴接收器的反彈到達錫滴回收器中。