[發(fā)明專利]一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011382108.3
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112888127B
• 公開（公告）日: 2023-05-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 袁承勛;李金明;姚靜鋒;周忠祥;王曉鷗;阿斯塔菲耶夫·阿勒科山德;庫德里亞夫謝夫·安納托利
• 申請（專利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)
• 主分類號: H05H1/00
• 分類號: H05H1/00
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211
• 代理人: 李恩慶

1.一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：它包括第一探測天線（1）、第二探測天線（2）、諧振腔（3）、放置孔（4）、頻譜分析儀（6）、試驗(yàn)臺（7）和射流放電玻璃管，所述諧振腔（3）放置在試驗(yàn)臺（7）上，所述諧振腔（3）內(nèi)部由金屬銅箔全面覆蓋，所述諧振腔（3）上開設(shè)有放置孔（4），所述放置孔（4）內(nèi)放置射流放電玻璃管，所述射流放電玻璃管內(nèi)設(shè)置射流等離子體并連接電極，所述第一探測天線（1）和第二探測天線（2）對稱設(shè)置在諧振腔（3）的腔體內(nèi)，所述第一探測天線（1）和第二探測天線（2）分別連接頻譜分析儀（6）的輸入端和輸出端，諧振腔（3）腔體距邊緣長度的四分之一處設(shè)置第一探測天線（1）和第二探測天線（2），另一側(cè)諧振腔（3）腔體邊緣長度的四分之一處設(shè)置射流等離子體，通過調(diào)諧頻譜分析儀（6）后，確定圓柱形諧振腔（3）的本征模式的頻率和品質(zhì)因數(shù)Q，通過放置孔（4）安裝研究的等離子體，并確定本征模式的頻率和品質(zhì)因數(shù)Q的變化，根據(jù)本征模式的頻率和品質(zhì)因數(shù)Q的變化，使用擾動(dòng)理論以及等離子體的介電常數(shù)和電導(dǎo)率表達(dá)式確定腔體內(nèi)等離子體的平均電子密度和電子碰撞的頻率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述放置孔（4）數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)放置孔（4）對稱開設(shè)在諧振腔（3）上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述諧振腔（3）為圓柱形結(jié)構(gòu)并通過支架固定。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述諧振腔（3）直徑為152mm，長度為480mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述第一探測天線（1）和第二探測天線（2）長度相等。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述第一探測天線（1）和第二探測天線（2）長度均為30mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述射流放電玻璃管外徑為8mm，壁厚為1.5mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述頻譜分析儀（6）型號為Rigol?DSA815-TG。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述頻譜分析儀（6）的最高運(yùn)行頻率范圍是9kHz-1.5?GHz。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微波諧振腔的大氣壓低溫等離子體射流診斷裝置，其特征在于：所述診斷裝置電源為正弦電壓源，頻率為28?kHz，幅度為3?kV。