[發明專利]激光元件陣列、發光及光學裝置、測量及信息處理裝置在審
| 申請號: | 202011381987.8 | 申請日: | 2020-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN113410752A | 公開(公告)日: | 2021-09-17 |
| 發明(設計)人: | 近藤崇 | 申請(專利權)人: | 富士膠片商業創新有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/06 | 分類號: | H01S5/06;H01S5/40;H01S5/42;H01S5/00;G01S7/481;G01S17/88 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 日本東京*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 元件 陣列 發光 光學 裝置 測量 信息處理 | ||
1.一種面發光激光元件陣列,呈二維狀地排列有多個面發光激光元件群,所述多個面發光激光元件群分別包含多個面發光激光元件,且能夠彼此獨立驅動,所述面發光激光元件陣列中,
在排列有所述多個面發光激光元件群的排列區域中,沿著第一方向配置的面發光激光元件群的數量比沿著與所述第一方向正交的第二方向配置的面發光激光元件群的數量多,
由所述多個面發光激光元件群所照射的照射區域的形狀為將所述第一方向作為長邊的形狀,
比起所述照射區域的縱橫比,排列有所述多個面發光激光元件群的所述排列區域的縱橫比更接近1:1。
2.根據權利要求1所述的面發光激光元件陣列,其中
所述排列區域的所述第一方向的長度為所述排列區域的所述第二方向的長度的0.8倍以上且1.2倍以下。
3.根據權利要求1所述的面發光激光元件陣列,其中
所述排列區域的所述第一方向的長度為所述排列區域的所述第二方向的長度的0.9倍以上且1.1倍以下。
4.根據權利要求1所述的面發光激光元件陣列,其中
所述排列區域的所述第一方向的長度為所述排列區域的所述第二方向的長度的0.95倍以上且1.05倍以下。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的面發光激光元件陣列,其中
就各個所述面發光激光元件群中的所述多個面發光激光元件而言,沿著所述第二方向配置的數量比沿著所述第一方向配置的數量多。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的面發光激光元件陣列,其中
所述多個面發光激光元件群形成在共同的半導體基板上。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的面發光激光元件陣列,其中
所述多個面發光激光元件群的各個面發光激光元件群中的所述多個面發光激光元件彼此并聯連接。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的面發光激光元件陣列,其中
具有獨立地驅動所述多個面發光激光元件群的各個面發光激光元件群的驅動部。
9.根據權利要求8所述的面發光激光元件陣列,其中
所述驅動部使所述多個面發光激光元件群的各個面發光激光元件群依序發光。
10.一種發光裝置,包括:
權利要求1至9中任一項所述的面發光激光元件陣列;以及
圓形的光學元件,具有包含所述面發光激光元件陣列中所含的多個面發光激光元件群的大小,且設在所述多個面發光激光元件群的出射路徑上。
11.根據權利要求10所述的發光裝置,其中
所述光學元件是使從所述多個面發光激光元件群出射的光的擴展角變窄的透鏡。
12.根據權利要求10或11所述的發光裝置,包括:
擴散構件,使從所述多個面發光激光元件群出射且透過了所述光學元件的光擴散而出射。
13.根據權利要求10或11所述的發光裝置,包括:
衍射構件,使從所述多個面發光激光元件群出射且透過了所述光學元件的光衍射而出射。
14.一種光學裝置,包括:
權利要求10至13中任一項所述的發光裝置;以及
受光部,接收從所述發光裝置所包括的多個面發光激光元件群出射且由被測量物予以反射的反射光。
15.一種測量裝置,包括:
權利要求14所述的光學裝置;以及
三維形狀確定部,基于從自所述光學裝置所包括的多個面發光激光元件群出射直至被所述光學裝置所包括的受光部接收為止的時間,來測量三維形狀,從而確定被測量物的三維形狀。
16.一種信息處理裝置,包括:
權利要求15所述的測量裝置;以及
認證處理部,基于所述測量裝置所包括的三維形狀確定部中的確定結果,進行與自身裝置的使用相關的認證處理。
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