[發明專利]一種真空滅弧室有效
| 申請號: | 202011381547.2 | 申請日: | 2020-12-01 |
| 公開(公告)號: | CN112614737B | 公開(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發明(設計)人: | 劉慶;畢迎華;馬朝陽;楊帆;林麟;薛從軍;李永林;王向克;李旭旭;孫廣雷;何創偉;陸靜;李小釗;趙芳帥;齊大翠;劉文魁;王銘飛;徐伏剛;王晶;龐素敏;劉先保;李瀟;張航;李新衛;關昕;李智勇;周躍剛 | 申請(專利權)人: | 平高集團有限公司;國家電網有限公司 |
| 主分類號: | H01H33/664 | 分類號: | H01H33/664 |
| 代理公司: | 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119 | 代理人: | 賈東東 |
| 地址: | 467001 *** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 真空 滅弧室 | ||
本發明涉及一種真空滅弧室,包括:靜觸頭結構,包括導電連接的靜主觸頭和靜弧觸頭,靜弧觸頭活動裝配在靜主觸頭中;動觸頭結構包括導電連接的動主觸頭和動弧觸頭;動主觸頭和靜主觸頭用于正常通流,動弧觸頭和靜弧觸頭用于滅弧;所述靜主觸頭和動主觸頭中的其中一個主觸頭具有錐形外周面,另一個主觸頭具有錐形凹部,該錐形凹部具有錐形內周面,錐形內周面在合閘時用于與所述錐形外周面吻合插配,以實現正常通流。該真空滅弧室中,在分合閘過程中,主觸頭和弧觸頭完全分離,有效提高了真空滅弧室的通流能力,而且,利用動主觸頭和靜主觸頭之間錐形吻合插配,可有效增加通流面積,改善通流能力。
技術領域
本發明屬于真空開關技術領域,具體涉及一種真空滅弧室。
背景技術
隨著經濟的發展,真空斷路器以其環境友好、壽命長、免維護等特點,逐漸替代六氟化硫斷路器已成為國內外研究熱點,對于真空滅弧室來講,難點在于如何在正常情況下導通額定電流,又能在故障情況下開斷故障電流。
在授權公告號為CN2023076740U的中國實用新型專利中公開了一種真空滅弧室,雖然靜觸頭包括分開布置的弧觸頭和主觸頭,但是動觸頭依然為主觸頭和弧觸頭一體結構,即便采用開斷能力最好,并適合高電壓、大開斷容量的縱向磁場觸頭結構,動觸頭的通流能力在交流趨膚效應的作用下,依然不如單純的主觸頭導體。在申請公布號為CN111463061A的中國發明專利申請中公開了一種真空滅弧室,靜主觸頭具有沿插接方向延伸的通道,靜弧觸頭沿插接方向可移動的導電裝配在靜主觸頭的通道中,動主觸頭呈一端開口的筒形,套在動弧觸頭外,無論是靜端還是動端,主觸頭均與弧觸頭分開,合閘時,靜主觸頭和動主觸頭對接連通,保證滅弧室的通流能力,分閘時,由采用線圈磁場結構的動弧觸頭和靜弧觸頭開斷電弧,有效改善真空滅弧室通流及開斷故障電流的性能。
現有具有主觸頭和弧觸頭分離的復合觸頭結構的真空滅弧室中,在傳遞合閘電流時,動主觸頭和靜主觸頭均為平面對接的方式,通路接觸性能完全取決于接觸平面大小,如果希望獲得較大的通流能力及較好的溫升性能,就需要擴大主觸頭徑向尺寸,這就會導致真空滅弧室徑向尺寸變大,不符合真空滅弧室小型化發展思路,不能有效改善采用復合觸頭結構的動觸頭和靜觸頭的通流能力。
發明內容
本發明的目的在于提供一種真空滅弧室,以解決現有技術中采用復合觸頭結構的靜觸頭和動觸頭中的主觸頭平面對接以傳遞合閘電流導致不能有效改善通流能力的技術問題。
為實現上述目的,本發明所提供的真空滅弧室的技術方案是:一種真空滅弧室,包括:
滅弧室殼體,內設靜觸頭結構和動觸頭結構;
所述靜觸頭結構,包括導電連接的靜主觸頭和靜弧觸頭,靜主觸頭為套筒狀,靜弧觸頭活動裝配在靜主觸頭中;
所述動觸頭結構,包括導電連接的動主觸頭和動弧觸頭;
所述動主觸頭和靜主觸頭用于正常通流,動弧觸頭和靜弧觸頭用于滅弧;
所述靜弧觸頭沿著朝向動觸頭結構的方向突出于靜主觸頭布置,動弧觸頭沿著朝向靜觸頭結構的方向突出于動主觸頭布置,合閘時,動弧觸頭和靜弧觸頭先于動主觸頭和靜主觸頭接觸,分閘時,動弧觸頭和靜弧觸頭后于動主觸頭和靜主觸頭分離;
所述靜主觸頭和動主觸頭中的其中一個主觸頭具有錐形外周面,另一個主觸頭具有錐形凹部,該錐形凹部具有錐形內周面,錐形內周面在合閘時用于與所述錐形外周面吻合插配,以實現正常通流。
有益效果是:上述實施例所提供的真空滅弧室中,在分合閘過程中,主觸頭和弧觸頭完全分離,有效提高了真空滅弧室的通流能力,而且,利用動主觸頭和靜主觸頭之間錐形吻合插配,可有效增加通流面積,改善通流能力。
作為進一步地改進,所述靜主觸頭和動主觸頭中的具有所述錐形凹部的相應主觸頭包括多個觸頭瓣,所有觸頭瓣沿周向間隔均布,所有觸頭瓣的內側面配合形成所述的錐形內周面。
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