[發明專利]抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑及制備方法

在審

• 申請號: 202011381328.4
• 申請日: 2020-12-01
• 公開（公告）號: CN112457454A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發明（設計）人: 蘇俊霖;尹雨紅;左富銀;趙洋;李立宗;程翰銳;張愛
• 申請（專利權）人: 西南石油大學
• 主分類號: C08F292/00
• 分類號: C08F292/00;C08F220/56;C08F226/04;C08F226/10;C09K8/035
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種水基鉆井液抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑的制備方法，該方法包括以下步驟：

步驟一，取一錐形瓶，向其加入100mL去離子水和無機單體改性納米二氧化硅并使用超聲波分散儀超聲分散25min，制得改性納米二氧化硅懸浮液；

步驟二，將丙烯酰胺、二甲基二烯丙基氯化銨和N-乙烯基吡咯烷酮三種有機單體按比例混合在100mL去離子水中，溶解并攪拌均勻，并加入適量的氫氧化鈉水溶液調節pH至9將混合溶液轉移至250mL三口燒瓶中，通入氮氣的同時加入10mL配置好的改性納米二氧化硅懸浮液，升溫至70℃，加入引發劑，攪拌反應7h，得乳白色粘稠液體，將所制得的初成品冷卻至室溫，放入真空干燥箱在65℃條件下干燥24h、研磨粉碎后制得水基鉆井液用有機/無機雜化聚合物降濾失劑粗成品。

2.根據權利要求1所述的抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑的制備方法，其特征在于步驟一中所述的改性納米二氧化硅是通過硅烷偶聯劑KH570對納米二氧化硅進行表面改性后的一種無機單體，其粒徑為20nm，比表面積為140.21m²/g，加量為溶劑體積的5％。

3.根據權利要求1所述的抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑的制備方法，其特征在于步驟二中所述的丙烯酰胺、二甲基二烯丙基氯化銨和N-乙烯基吡咯烷酮三種單體的質量比為(3～7):(1～5):(1～3)，總加量為溶液總體積的20％～30％。

4.根據權利要求1所述的抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑的制備方法，其特征在于步驟二中整個反應過程始終通氮排氧，防止氧氣的存在降低單體轉化率。

5.根據權利要求1所述的抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑的制備方法，其特征在于所述的引發劑為過硫酸銨與亞硫酸氫鈉，質量比為1:1，總用量為體系單體總質量的0.4％。

6.權利要求1-5所述的制備方法制備得到一種水基鉆井液抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑。

7.根據權利要求6所述的抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑的制備方法，其特征在于所述的水基鉆井液其配方為：4％膨潤土+土的2％無水碳酸鈉+1L水。

8.根據權利要求7所制備的水基鉆井液抗高溫有機/無機雜化聚合物降濾失劑在基漿中進行流變性、降濾失性及抗高溫能力評價。