[發(fā)明專利]一種搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011379439.1 | 申請日: | 2020-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN112376048A | 公開(公告)日: | 2021-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 粟鑫;解付兵;翟海軍;劉守龍;劉宜德;曹瑩;劉力瑋;陳人可 | 申請(專利權(quán))人: | 湖南景翌湘臺環(huán)保高新技術(shù)開發(fā)有限公司;深圳粵鵬環(huán)保技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23D5/02 | 分類號: | C23D5/02;C23D11/00;C03C1/00;C03C8/00 |
| 代理公司: | 長沙德恒三權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43229 | 代理人: | 葛艷 |
| 地址: | 411100 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 搪瓷 面釉磨加物 應(yīng)用 方法 | ||
1.一種搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法,其特征在于,包括如下步驟:
1)制備磨加物,所述磨加物由廢稀土拋光粉、硼砂以及高嶺土組成;
2)將搪瓷面釉與磨加物按85~95:7~13的重量比混合;
3)將經(jīng)過步驟2)混合后的物料加入球磨罐中,加入適量水,研磨5~7min后得到釉漿,將釉漿過篩備用;
4)將過篩后的釉漿調(diào)節(jié)濃稠度后,均勻搪涂在底釉凈坯上,底釉凈坯在200~300℃的條件下烘干水分后,放入馬弗爐中以800~900℃的溫度焙燒成搪瓷制品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法,其特征在于,所述步驟3)中,釉漿過篩時分別過140目篩和60目篩,取過60目篩的釉漿備用。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法,其特征在于,所述磨加物中,廢稀土拋光粉、硼砂與高嶺土的質(zhì)量比為1~3:5~7:1~3。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法,其特征在于,所述搪瓷面釉與磨加物的質(zhì)量比為90:10,所述磨加物中廢稀土拋光粉、硼砂與高嶺土的質(zhì)量比為2:6:2。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法,其特征在于,所述搪瓷面釉與磨加物的質(zhì)量比為92:8,所述磨加物中廢稀土拋光粉、硼砂與高嶺土的質(zhì)量比為2:5:1。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法,其特征在于,所述廢稀土拋光粉的電導(dǎo)率小于200μS/cm,且廢稀土拋光粉中氧化硅含量85~92%、氧化鋁含量0.5~1%、二氧化鈰和氟化鑭合計占比為5~10%。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的搪瓷面釉磨加物的應(yīng)用方法,其特征在于,所述廢稀土拋光粉由氧化硅含量50~70%,氧化鋁含量15~20%,稀土氧化物5~15%的廢稀土拋光粉粗料為原料制備得到,制備方法包括如下步驟:
S1、將廢稀土拋光粉粗料加水調(diào)漿,固體濃度為15~30%,進(jìn)離心分離機選礦分離,按密度和顆粒大小分離后得到第一物料和第二物料,其中,所述第一物料為粒徑為5μm以上粗顆粒和重物料,所述第二物料為粒徑為5μm以下的細(xì)顆粒和輕物料;通過重選分離,第二物料的硅含量比第一物料的硅含量高30%以上,得到初步提純;
S2、將S1中所述第二物料加入稀酸溶液中反應(yīng),所述第二物料中易溶的氧化鋁、氧化鑭溶解,而第二物料中氧化硅粉、二氧化鈰和氟化鑭留在低酸浸出渣中,反應(yīng)完成后過濾,得到低酸濾液和低酸浸出渣;
S3、將S2中所述的低酸浸出渣中加入濃硫酸反應(yīng),加熱溫度到120~180度,低酸浸出渣中的二氧化鈰、氟化鑭、殘留的少量鐵及鋁溶解進(jìn)入溶液;再對該溶液進(jìn)行過濾分離,得到含有氧化硅粉的高酸浸出渣,高酸浸出渣為所述搪瓷面釉磨加物的原料。
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