[發(fā)明專利]一種集成電路外引線電鍍層的退鍍液及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011374513.0 | 申請日: | 2020-11-30 |
| 公開(公告)號: | CN112501615B | 公開(公告)日: | 2023-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陸建輝;袁軍華;王承國 | 申請(專利權(quán))人: | 南通麥特隆新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/16 | 分類號: | C23F1/16;C23F1/18 |
| 代理公司: | 上海微策知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31333 | 代理人: | 湯俊明 |
| 地址: | 226000 江蘇省南通*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 集成電路 外引 鍍層 退鍍液 及其 制備 方法 | ||
1.一種集成電路外引線電鍍層的退鍍液,其特征在于:原料包含以下濃度:檸檬酸175g/L,硫酸175g/L,十二烷基硫酸鈉25g/L,過氧化氫225g/L,添加劑70g/L,助劑40g/L,胺類有機(jī)物175g/L;所述添加劑為聚(失水蘋果酸酐-丙烯酸甲酯);所述聚(失水蘋果酸酐-丙烯酸甲酯)制備原料為失水蘋果酸酐,丙烯酸甲酯,正十二硫醇,過硫酸銨,異丙醇;所述失水蘋果酸酐,丙烯酸甲酯和過硫酸銨的重量比為70~80:30~40:1~2;所述助劑為氯化鈉和檸檬酸銨;氯化鈉和檸檬酸銨的重量比為3~4:1~2;所述胺類有機(jī)物為二乙醇胺和正己胺,重量比為4:1。
2.一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成電路外引線電鍍層的退鍍液的制備方法,其特征在于:依次將預(yù)稱好的所有原料加入到含有去離子水的攪拌容器中進(jìn)行混合,之后密封攪拌3~4小時,攪拌完成后再經(jīng)過微細(xì)精密過濾器進(jìn)行過濾,過濾完成后既得所述退鍍液。
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