[發明專利]表面形貌檢測系統在審
| 申請號： | 202011369351.1 | 申請日： | 2020-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN114577136A | 公開（公告）日： | 2022-06-03 |
| 發明（設計）人： | 張瑋剛;楊蘭昇 | 申請（專利權）人： | 致茂電子（蘇州）有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/24 | 分類號： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 郭化雨 |
| 地址： | 215129 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 表面 形貌 檢測 系統 | ||
1.一種表面形貌檢測系統，其特征在于，包含：
一光源，用以提供一標準光線；
一第一分光鏡，用以將該標準光線分成一第一光線與一第二光線；
一待測端物鏡，用以將該第一光線投射于一待測表面，并接收該待測表面反射的一測試光線；
一參考端物鏡，用以將該第二光線投射于一參考表面，并接收該參考表面反射的一參考光線；
一空間光調制器，用以接收該參考光線，并依據一修正參數修正該參考光線；以及
一檢測模塊，用以比對該測試光線與修正后的該參考光線，以計算該待測表面的一表面形貌；
其中該修正參數關聯于該待測端物鏡與該參考端物鏡之間的一鏡頭像差。
2.根據權利要求1所述的表面形貌檢測系統，其特征在于，該參考光線投射至該空間光調制器，該空間光調制器反射該參考光線以得到該修正后的該參考光線。
3.根據權利要求1所述的表面形貌檢測系統，其特征在于，該第一光線與該測試光線的總光程，等于該第二光線、該參考光線與修正后的該參考光線的總光程。
4.一種表面形貌檢測系統，其特征在于，包含：
一光源，用以提供一標準光線；
一分光鏡，用以將該標準光線分成一第一光線與一第二光線；
一待測端物鏡，用以將該第一光線投射于一待測表面，并接收該待測表面反射的一測試光線；
一空間光調制器，用以接收該第二光線，并依據一修正參數修正該第二光線；以及
一參考端物鏡，用以將修正后的該第二光線投射于一參考表面，并接收該參考表面反射的一參考光線；
一檢測模塊，用以比對該測試光線與該參考光線，以計算該待測表面的一表面形貌；
其中該修正參數關聯于該待測端物鏡與該參考端物鏡之間的一鏡頭像差。
5.根據權利要求4所述的表面形貌檢測系統，其特征在于，該第二光線投射至該空間光調制器，該空間光調制器反射該第二光線以得到修正后的該第二光線。
6.根據權利要求4所述的表面形貌檢測系統，其特征在于，該第一光線與該測試光線的總光程，等于該第二光線、修正后的該第二光線與該參考光線的總光程。
7.一種表面形貌檢測系統，其特征在于，包含：
一光源，用以提供一標準光線；
一分光鏡，用以將該標準光線分成一第一光線與一第二光線；
一待測端物鏡，設置于一第一光路徑中，用以將該第一光線投射于一待測表面，并接收該待測表面反射的一測試光線；
一空間光調制器，設置于一第二光路徑中，用以接收該第二光線，并依據一修正參數分別修正該第二光線與一參考光線；以及
一參考端物鏡，設置于該第二光路徑中，用以將修正后的該第二光線投射于一參考表面，并將該參考表面反射的該參考光線射入該空間光調制器；
一檢測模塊，用以比對該測試光線與修正后的該參考光線，以計算該待測表面的一表面形貌；
其中該修正參數關聯于該待測端物鏡與該參考端物鏡之間的一鏡頭像差。
8.根據權利要求7所述的表面形貌檢測系統，其特征在于，該第二光線穿透該空間光調制器以得到修正后的該第二光線，該參考光線穿透該空間光調制器以得到修正后的該參考光線。
9.根據權利要求7所述的表面形貌檢測系統，其特征在于，更包含一偏光單元，該偏光單元設置于該光源與該第一分光鏡之間，用以偏振該標準光線。
10.根據權利要求7所述的表面形貌檢測系統，其特征在于，該第一光線與該測試光線的總光程，等于該第二光線、修正后的該第二光線、該參考光線與修正后的該參考光線的總光程。
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