[發明專利]電子產品的中框及其制作方法、電子產品的外殼和電子產品有效
| 申請號: | 202011366840.1 | 申請日: | 2020-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN112543563B | 公開(公告)日: | 2022-06-21 |
| 發明(設計)人: | 張春姣;周天濟 | 申請(專利權)人: | 深圳市沃陽精密科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K5/02 | 分類號: | H05K5/02;C09D155/02;C09D7/61;C09D7/20 |
| 代理公司: | 華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 馬小悅 |
| 地址: | 518172 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子產品 及其 制作方法 外殼 | ||
1.一種電子產品的中框,其特征在于,包括:基材、設置在所述基材上的涂料層和設置在所述涂料層遠離所述基材一側的光學薄膜層,制備所述涂料層的原料包括涂料主劑,按質量份數計,所述涂料主劑包括:樹脂15份~35份、白色顏料20份~40份、溶劑25份~45份及助劑1份~6份,所述光學薄膜層包括至少一個高折射率層和至少一個低折射率層,所述高折射率層和所述低折射率層交替設置,且所述光學薄膜層中遠離所述基材的最外層為高折射率層,所述光學薄膜層用于將所述中框的反射顏色調整至Lab顏色色度指標為:L=50~60,a=-5~0,b=0~5。
2.根據權利要求1所述的電子產品的中框,其特征在于,制備所述涂料層的原料還包括稀釋劑,所述稀釋劑與所述涂料主劑的質量比為(2~4):1。
3.根據權利要求1所述的電子產品的中框,其特征在于,所述樹脂為丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物;及/或,所述溶劑為783慢干水。
4.根據權利要求1~3任一項所述的電子產品的中框,其特征在于,所述涂料層的厚度為13μm~17μm。
5.根據權利要求1所述的電子產品的中框,其特征在于,所述光學薄膜層的總厚度為85nm~200nm;及/或,所述高折射率層和所述低折射率層的總層數為3層~5層。
6.根據權利要求1所述的電子產品的中框,其特征在于,所述光學薄膜層由依次層疊設置的第一高折射率層、低折射率層和第二高折射率層組成,所述第一高折射率層較所述第二高折射率層更靠近所述涂料層,所述第一高折射率層的厚度為10nm~40nm,所述低折射率層的厚度為20nm~50nm,所述第二高折射率層的厚度為30nm~60nm。
7.根據權利要求1所述的電子產品的中框,其特征在于,所述光學薄膜層由依次層疊設置的第一高折射率層、第一低折射率層、第二高折射率層、第二低折射率層和第三高折射率層組成,所述第一高折射率層較所述第三高折射率層更靠近所述涂料層,所述第一高折射率層的厚度為10nm~40nm,所述第一低折射率層的厚度為20nm~50nm,所述第二高折射率層的厚度為20nm~60nm,所述第二低折射率層的厚度為18nm~50nm,所述第三高折射率層的厚度為10nm~20nm。
8.根據權利要求1~3及5~7任一項所述的電子產品的中框,其特征在于,所述高折射率層的材料選自Nb2O5、TiO2、Si3N4及SiOxNy中的一種,其中,0x≤2,0y≤3;及/或,所述低折射率層的材料為SiO2。
9.根據權利要求1~3及5~7任一項所述的電子產品的中框,其特征在于,所述電子產品的中框還包括設置在所述涂料層和所述光學薄膜層之間的第一UV膠層和/或設置在所述光學薄膜層遠離所述基材的一側的第二UV膠層。
10.根據權利要求9所述的電子產品的中框,其特征在于,所述第一UV膠層的厚度為8μm~12μm;所述第二UV膠層的厚度為8μm~12μm。
11.一種電子產品的中框的制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
在基材上形成涂料層,制備所述涂料層的原料包括涂料主劑,按質量份數計,所述涂料主劑包括:樹脂15份~35份、白色顏料20份~40份、溶劑25份~45份及助劑1份~6份;及
在所述涂料層遠離所述基材的一側形成光學薄膜層,制作電子產品的中框;其中,所述光學薄膜層包括至少一個高折射率層和至少一個低折射率層,所述高折射率層和所述低折射率層交替設置,且所述光學薄膜層中遠離所述基材的最外層為高折射率層,所述光學薄膜層用于將所述中框的反射顏色調整至Lab顏色色度指標為:L=50~60,a=-5~0,b=0~5。
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