[發明專利]MEMS探針測試基座超精密光刻定位方法

有效

• 申請號: 202011365963.3
• 申請日: 2020-11-29
• 公開（公告）號: CN112462576B
• 公開（公告）日: 2022-04-19
• 發明（設計）人: 金永斌;賀濤;丁寧;朱偉
• 申請（專利權）人: 法特迪精密科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.MEMS探針測試基座超精密光刻定位方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟a、調整多孔轉盤（3）位置，使距離轉軸最近的第一透光孔和距離轉軸最遠的第一透光孔分別位于矩形透光窗口的兩側；

步驟b、將保護膜（6）粘貼或鍍膜在基板（7）上，并將基板（7）放置在上表面與凸透鏡（5）的焦平面重合的位置；

步驟c、控制副光源（8）發出平行光；

步驟d、驅動多孔轉盤（3）轉動，每次在第一透光孔轉動到矩形透光窗口位置時，副光源（8）發出的平行光，經過棱鏡（9）反射到多孔轉盤（3）的反射面，再經過反射面的反射，透過棱鏡（9），入射到光電開關（10）上，光電開關（10）打開，控制主光源（1）發光；

步驟e、每次在第一透光孔轉動到矩形透光窗口位置時，主光源（1）發出的光線依次穿過窗口板（2）上的矩形透光窗口、多孔轉盤（3）上的第一透光孔和固定板（4）上的第二透光孔，最終由凸透鏡（5）匯聚到基板（7）上表面完成光刻定位；

步驟f、在多孔轉盤（3）轉動一周后，完成基板（7）上一排插孔的光刻定位；

所述MEMS探針測試基座超精密光刻定位方法在MEMS探針測試基座超精密光刻定位裝置上實現，所述MEMS探針測試基座超精密光刻定位裝置包括主光源（1）、窗口板（2）、多孔轉盤（3）、固定板（4）、凸透鏡（5）、保護膜（6）、基板（7）、副光源（8）、棱鏡（9）和光電開關（10）；

主光路上沿光線傳播方向依次設置主光源（1）、窗口板（2）、多孔轉盤（3）、固定板（4）、凸透鏡（5）、保護膜（6）和基板（7）；

所述窗口板（2）為沿所述多孔轉盤（3）半徑方向開有矩形透光窗口的不透光板；

所述多孔轉盤（3）位于窗口板（2）的下方，能夠在其所在平面內繞轉軸旋轉，多孔轉盤（3）表面開有多個第一透光孔，所述多個第一透光孔的連線構成一條螺旋線，相鄰兩個所述第一透光孔到轉軸方向的距離差為hd/f；其中，h為多孔轉盤（3）到凸透鏡（5）的距離，d為所述基板（7）上相鄰兩個插孔的距離，f為凸透鏡（5）的焦距；多孔轉盤（3）的側面為吸光面和反射面交替的結構，所述反射面、第一透光孔和轉軸三點一線；

所述固定板（4）為開有第二透光孔的不透光板；

所述凸透鏡（5）位于固定板（4）下方，凸透鏡（5）的光軸穿過固定板（4）中第二透光孔的圓心；

所述保護膜（6）粘貼或鍍膜在基板（7）上；

所述基板（7）上表面到凸透鏡（5）的距離為凸透鏡（5）的焦距f；

副光路上沿光線傳播方向依次設置副光源（8）、棱鏡（9）和光電開關（10）；

所述副光源（8）發出平行光；

所述棱鏡（9）位于副光源（8）的出射光路上，能夠將平行光反射到多孔轉盤（3）的側面，能夠將從多孔轉盤（3）反射面反射的光線透過；

所述光電開關（10）位于多孔轉盤（3）反射面的反射光路上，光電開關（10）與主光源（1）電連接，在光電開關（10）接收到來自多孔轉盤（3）反射面的反射光后，驅動主光源（1）發光。