[發(fā)明專(zhuān)利]一種納米氮化硼改性聚丙烯的復(fù)合介電薄膜和制法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011364693.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112341654A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 駱永新 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 諸暨市創(chuàng)達(dá)彈簧有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C08J5/18 | 分類(lèi)號(hào): | C08J5/18;C08L51/06;C08K9/04;C08K3/38;C08F255/02;C08F222/06 |
| 代理公司: | 北京恒泰銘睿知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11642 | 代理人: | 蘇天功 |
| 地址: | 311800 浙江省紹興市*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 氮化 改性 聚丙烯 復(fù)合 薄膜 制法 | ||
1.一種納米氮化硼改性聚丙烯的復(fù)合介電薄膜,其特征在于:所述納米氮化硼改性聚丙烯的復(fù)合介電薄膜的制備方法包括以下步驟:
(1)將納米六方氮化硼與尿素混合均勻,置于球磨罐中,在氮?dú)夥諊虑蚰?0-20h,得到氨基化納米氮化硼;
(2)向燒瓶中加入體積比為2:1的二甲苯和丙酮的混合溶劑,在氮?dú)夥諊校尤刖郾⑦^(guò)氧化二苯甲酰和馬來(lái)酸酐,攪拌混合,加熱進(jìn)行反應(yīng),丙酮洗滌,干燥,得到馬來(lái)酸酐接枝的聚丙烯;
(3)向燒杯中加入氨基化氮化硼和丙酮,超聲分散得到混合溶液,將馬來(lái)酸酐接枝的聚丙烯溶于丙酮溶液,逐滴滴加到上述混合溶液中,室溫下攪拌反應(yīng)24-36h,將溶液涂布在潔凈的玻璃基板上進(jìn)行涂膜,干燥,得到納米氮化硼改性聚丙烯的復(fù)合介電薄膜。
2.權(quán)利要求1所述的納米氮化硼改性聚丙烯的復(fù)合介電薄膜,其特征在于:所述步驟(2)中聚丙烯、過(guò)氧化二苯甲酰和馬來(lái)酸酐的質(zhì)量比為100:0.5-2:0.8-3。
3.權(quán)利要求1所述的納米氮化硼改性聚丙烯的復(fù)合介電薄膜,其特征在于:所述步驟(2)中反應(yīng)的溫度為100-150℃,反應(yīng)時(shí)間為3-5h。
4.權(quán)利要求1所述的納米氮化硼改性聚丙烯的復(fù)合介電薄膜,其特征在于:所述步驟(3)中馬來(lái)酸酐接枝的聚丙烯、氨基化氮化硼的質(zhì)量比為100:0.5-1.5。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于諸暨市創(chuàng)達(dá)彈簧有限公司,未經(jīng)諸暨市創(chuàng)達(dá)彈簧有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011364693.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
C08J 加工;配料的一般工藝過(guò)程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小類(lèi)中的后處理
C08J5-00 含有高分子物質(zhì)的制品或成形材料的制造
C08J5-02 .分散液,如乳膠直接加工成制品
C08J5-04 .用松散的或黏附的纖維狀材料增強(qiáng)高分子化合物
C08J5-12 .預(yù)先成形的高分子材料黏結(jié)在同樣的或另外的固體材料,如金屬、玻璃、皮革上,例如使用黏合劑
C08J5-14 .磨蝕或摩擦的制品或材料的制造
C08J5-16 .具有降低摩擦制品或材料的制造
- 導(dǎo)電化合物上的大晶粒低電阻率鎢
- 基于六方氮化硼和磁控濺射氮化鋁的氮化鎵生長(zhǎng)方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及制備方法及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動(dòng)元件與其制作方法
- 一種氮化鋁復(fù)合緩沖層及氮化鎵基半導(dǎo)體器件
- 連續(xù)氮化處理爐和連續(xù)氮化處理方法
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 一種氮化雙向供氣裝置以及氮化雙向供氣系統(tǒng)
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動(dòng)元件與其制作方法
- 鎵解理面III族/氮化物磊晶結(jié)構(gòu)及其主動(dòng)元件與其制作方法





