[發(fā)明專(zhuān)利]一種紅外測(cè)溫的信號(hào)處理方法、裝置及電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011363816.2
• 申請(qǐng)日: 2020-11-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112629665B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王祥輝;齊亞魯;劉巖
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 煙臺(tái)艾睿光電科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G01J5/48
• 分類(lèi)號(hào): G01J5/48
• 代理公司: 北京市萬(wàn)慧達(dá)律師事務(wù)所 11111
• 代理人: 陳怡

1.一種紅外測(cè)溫的信號(hào)處理方法，其特征在于，包括：

獲取被測(cè)目標(biāo)對(duì)應(yīng)的輻射特征值，所述輻射特征值為所述被測(cè)目標(biāo)在成像波段的第一輻射量與其在低衰減波段的第二輻射量的比值，其中所述成像波段為8μm～14μm，所述低衰減波段為3.5μm～4.2μm；

獲取紅外探測(cè)裝置探測(cè)所述被測(cè)目標(biāo)在所述成像波段范圍內(nèi)的紅外輻射得到的主模擬信號(hào)，以及探測(cè)其在所述低衰減波段范圍內(nèi)的紅外輻射得到的參考模擬信號(hào)；

將所述主模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換為主數(shù)字信號(hào)，將所述參考模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換為參考數(shù)字信號(hào)；

根據(jù)所述參考數(shù)字信號(hào)計(jì)算參考值，根據(jù)所述主數(shù)字信號(hào)計(jì)算主值，其中所述參考值為參考數(shù)字信號(hào)的平均值，或者，當(dāng)參考數(shù)字信號(hào)和主數(shù)字信號(hào)數(shù)量相等時(shí)，所述參考值為參考數(shù)字信號(hào)的總和或者中位數(shù)，主值的計(jì)算方法與參考值對(duì)應(yīng)一致；

根據(jù)所述輻射特征值、所述參考值和所述主值計(jì)算獲得目標(biāo)數(shù)字信號(hào)；計(jì)算公式為：

其中，Value_outi為所述目標(biāo)數(shù)字信號(hào)，Value_i為所述主數(shù)字信號(hào)，Value_b為參考值，Value_a為主值，i為主像元陣列中像元的編號(hào)，K為輻射特征值；

基于所述目標(biāo)數(shù)字信號(hào)計(jì)算最終的溫度測(cè)量結(jié)果或生成紅外熱輻射圖像。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述主值對(duì)應(yīng)的所述主模擬信號(hào)在所述被測(cè)目標(biāo)上的測(cè)量位置和所述參考值對(duì)應(yīng)的所述參考模擬信號(hào)在所述被測(cè)目標(biāo)上的測(cè)量位置在預(yù)設(shè)的位置范圍內(nèi)。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取被測(cè)目標(biāo)對(duì)應(yīng)的輻射特征值，包括：

獲取所述被測(cè)目標(biāo)的光譜信息，根據(jù)所述光譜信息計(jì)算所述輻射特征值，所述光譜信息包括：所述被測(cè)目標(biāo)的材料對(duì)應(yīng)的光譜曲線函數(shù)。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述獲取所述被測(cè)目標(biāo)的光譜信息，包括：

根據(jù)所述被測(cè)目標(biāo)的圖像，識(shí)別所述被測(cè)目標(biāo)的材料；

根據(jù)所述被測(cè)目標(biāo)的材料，獲取所述光譜信息。

5.一種用于紅外測(cè)溫的信號(hào)處理的裝置，其特征在于，包括：

輻射特征值獲取模塊，用于獲取被測(cè)目標(biāo)對(duì)應(yīng)的輻射特征值，所述輻射特征值為所述被測(cè)目標(biāo)在成像波段的第一輻射量與其在低衰減波段的第二輻射量的比值，其中所述成像波段為8μm～14μm，所述低衰減波段為3.5μm～4.2μm；

信號(hào)接收模塊，用于獲取紅外探測(cè)裝置探測(cè)所述被測(cè)目標(biāo)在所述成像波段范圍內(nèi)的紅外輻射得到的主模擬信號(hào)，以及探測(cè)其在所述低衰減波段范圍內(nèi)的紅外輻射得到的參考模擬信號(hào)；

信號(hào)轉(zhuǎn)換模塊，用于將所述主模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換為主數(shù)字信號(hào)，將所述參考模擬信號(hào)轉(zhuǎn)換為參考數(shù)字信號(hào)；

修正模塊，用于根據(jù)所述輻射特征值、所述參考數(shù)字信號(hào)和所述主數(shù)字信號(hào)計(jì)算獲得目標(biāo)數(shù)字信號(hào)，包括：根據(jù)所述參考數(shù)字信號(hào)計(jì)算參考值，根據(jù)所述主數(shù)字信號(hào)計(jì)算主值，根據(jù)所述輻射特征值、所述參考值和所述主值計(jì)算獲得目標(biāo)數(shù)字信號(hào)；計(jì)算公式為：

其中，Value_outi為所述目標(biāo)數(shù)字信號(hào)，Value_i為所述主數(shù)字信號(hào)，Value_b為參考值，Value_a為主值，i為主像元陣列中像元的編號(hào)，K為輻射特征值，所述參考值為參考數(shù)字信號(hào)的平均值，或者，當(dāng)參考數(shù)字信號(hào)和主數(shù)字信號(hào)數(shù)量相等時(shí)，所述參考值為參考數(shù)字信號(hào)的總和或者中位數(shù)，主值的計(jì)算方法與參考值對(duì)應(yīng)一致；

所述目標(biāo)數(shù)字信號(hào)用于計(jì)算最終的溫度測(cè)量結(jié)果或生成紅外熱輻射圖像。

6.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：

紅外探測(cè)裝置，用于探測(cè)被測(cè)目標(biāo)在成像波段范圍內(nèi)的紅外輻射得到的主模擬信號(hào)，以及探測(cè)被測(cè)目標(biāo)在低衰減波段范圍內(nèi)的紅外輻射得到的參考模擬信號(hào)；

用于執(zhí)行如權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述方法的信號(hào)處理裝置。